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SOI CMOS技術及其應用

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黃如
科學齣版社
2005-10
383
48.0
平裝
9787030159687

圖書標籤: 設計  模擬集成  技術管理  專業   


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发表于2024-11-27

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圖書描述

本書從材料、器件、工藝和電路角度係統地介紹SOI CMOS技術。全書共分8章,從SOI材料的主要製備技術以及錶徵技術開始,詳細分析和闡述SOI MOS器件的主要基本特性和物理效應,包括浮體效應、短溝效應、窄溝效應、邊緣效應、熱載流子效應、自加熱效應以及器件的瞬態特性、噪聲特性和抗輻射特性等;然後從定量分析的角度介紹器件的理論模型;介紹SOI CMOS工藝製備技術以及一些很有潛力的新型SOI器件;最後重點介紹SOI CMOS電路應用,包括SOI微處理器電路、數模混閤信號電路、射頻集成電路、存儲器電路以及高溫高壓SOI電路等。本書取材新穎,涵蓋瞭SOI CMOS技術的基本知識和最新進展。

本書可作為微電子專業的研究生和高年級本科生以及專業技術人員的重要參考書,也可以作為信息領域其他專業的學生和相關科研人員、工程技術人員的重要參考資料。

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著者簡介

黃如,女,教授,博士生導師。北京大學信息科學技術學院副院長,微電子學研究院院長 研究方嚮: SOI技術;納米尺度半導體新結構邏輯和存儲器件;模型模擬及射頻相關技術等

2006年獲國傢傑齣青年科學傢基金,2008年獲聘長江學者特聘教授;現為《中國科學》副主編、信息産業科技發展“十一五”計劃和2020年中長期規劃編製專傢組專傢;中國電子學會半導體與集成技術分會委員會委員;專業國際核心期刊”IEEE Transactions on Electron Devices”的editor。

現主要從事新結構、新工藝器件研究以及射頻電路相關技術研究。主持瞭國傢973課題、863課題、國傢傑齣青年基金項目、國傢自然基金重點項目和麵上項目、電子預研等多項國傢項目。

在納米尺度新結構器件、新工藝技術、器件可靠性、射頻元器件及相關電路技術等方麵取得瞭若乾創新成果,提齣瞭麵嚮不同應用和不同集成電路技術代的新型準SOI 器件、垂直雙柵器件、BOI FinFET結構、基於傳統微電子加工方法的圍柵納米綫器件、VDNROM和DDFG閃存器件等新器件技術;主持研究瞭DTV射頻調諧器和RF ID相關技術的開發。

已閤作齣版著作4本,發錶論文200餘篇。獲得26項授權發明專利,獲專利申請號的發明專利22項。

曾獲北京市科學技術發明一等奬、教育部科技進步一等奬、中國青年科技奬、教育部霍英東青年教師研究奬、中國青年女科學傢提名奬、教育部新世紀優秀人纔計劃等部委級奬勵。


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