电子装联中的无铅焊料

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页数:243
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出版时间:2010-4
价格:38.00元
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isbn号码:9787121106781
丛书系列:
图书标签:
  • 无铅焊料
  • 电子装联
  • SMT
  • 焊接技术
  • 环保
  • 材料科学
  • 电子制造
  • 可靠性
  • RoHS
  • 电子封装
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具体描述

《电子装联中的无铅焊料》阐述了现代电子工业发展对软钎焊技术提出的新挑战,揭示了电子产品无铅化的必然趋势。在此基础上,介绍了国内外无铅钎料研究现状及最新进展,详细介绍了二元无铅钎料、三元及多元无铅钎料的物理性能、力学性能和可靠性等;并对与电子产品可靠性密切相关的界面金属间化合物、无铅钎焊接头可靠性模拟、无铅焊点缺陷、PCB无铅表面处理、器件引脚无铅镀层等问题进行了深入探讨,同时介绍了无铅焊点检测方法及无铅钎料及接头的测试方法和标准。

《电子装联中的无铅焊料》用于材料科学研究及实际生产指导,可作为从事先进电子连接材料研究的科研工作者及工程技术人员的参考书,也可作为材料科学、微电子连接等专业高年级学生或研究生的教学参考书。

好的,这是一份针对假设的图书《电子装联中的无铅焊料》的不包含其内容的图书简介,重点描述其他领域的电子技术或材料科学主题,力求详尽且自然: --- 《高精度微纳加工与表面工程:先进封装与异构集成的前沿技术》 内容简介 本书聚焦于当前电子制造领域最具挑战性的前沿课题之一:高精度微纳加工技术在先进电子封装和复杂异构集成系统构建中的应用与表面工程策略。不同于传统的专注于特定材料(如无铅焊料的化学冶金特性)的专著,本书提供了一个更宏观、更侧重于工艺精度与结构可靠性的全景式视角。 全书共分六大部分,深入剖析了从微米尺度到纳米尺度,实现关键电子部件高效、稳定、功能集成的复杂制造流程与基础科学原理。 第一部分:超精密加工基础与工具 本部分奠定了实现高密度互联和复杂三维结构所需的基础加工能力。详细讨论了聚焦离子束(FIB)技术在纳米级材料去除、修改和薄膜沉积中的最新进展,尤其关注其在半导体器件的失效分析和局部结构重构中的应用。 随后,深入探讨了飞秒激光微纳加工的物理机制,包括多光子吸收、等离子体形成与烧蚀过程的精确控制。书中详述了如何通过优化激光参数(脉冲宽度、重复频率、波长匹配)来实现对不同基底材料(如聚合物、陶瓷、金属间化合物)的无损或低损伤加工,为构建高深宽比的微通道和精密导光结构提供了技术蓝图。此外,还涵盖了微机械加工(MEMS-LIGA)在模具制造和批量微结构复制中的最新突破。 第二部分:先进封装中的热管理与可靠性 在电子设备性能日益提升的背景下,热量耗散成为限制系统性能和寿命的关键瓶颈。本部分将焦点放在先进封装的热界面材料(TIMs)的开发与表征上。书中详细对比了传统导热膏、相变材料以及新型碳基材料(如石墨烯、碳纳米管薄膜)在提高导热系数和长期热循环稳定性方面的表现。 重点章节分析了热应力分析与预测模型。利用有限元分析(FEA)软件,本书展示了如何模拟不同封装结构(如倒装芯片Flip-Chip、系统级封装SiP)在工作温度变化下产生的应力分布,特别是对脆性材料界面的剥离和微裂纹萌生的预测方法。强调了润湿角测量与界面结合强度测试在评估热界面可靠性中的关键作用。 第三部分:异构集成与三维堆叠技术 本书的核心章节之一,探讨了如何将不同功能模块(如CMOS逻辑芯片、存储器、光电器件)在物理上紧密集成,以实现更高的系统密度和更短的互连延迟。详细介绍了晶圆键合(Wafer Bonding)技术的分类(如直接键合、共晶键合、聚合物键合)及其在实现无引线、高密度互连中的工艺窗口控制。 着重分析了混合键合(Hybrid Bonding)技术——一种结合了超平坦化表面处理和低温直接金属键合(Cu-Cu键合)的技术。书中对键合界面处的金属扩散、晶界迁移与界面阻抗进行了深入的电学和材料学分析,这是确保数千甚至数万个微米级互连点同时实现可靠导电性的关键。此外,还涵盖了TSV(硅通孔)的制造、填充与钝化的全流程优化策略。 第四部分:表面功能化与界面工程 电子装联的成功在很大程度上取决于不同材料间的界面行为。本部分深入探讨了如何通过表面改性来控制界面能、改善润湿性、并增强粘接强度。 详细介绍了等离子体处理(包括活性气体等离子体和真空紫外光UV-Ozone处理)对聚合物和氧化物表面活化的机理。在化学处理方面,书中对自组装单分子层(SAMs)在功能化电极表面的应用进行了详尽的阐述,特别是如何利用特定的化学官能团来控制后续粘合剂或导电油墨的铺展行为。 此外,还专门论述了等离子体增强化学气相沉积(PECVD)在形成具有特定介电常数或高阻隔性能的薄膜(如用于湿气防护的Al2O3薄膜)方面的应用,这对于提高集成电路的长期工作寿命至关重要。 第五部分:高密度互连与柔性电子制造 本书关注了下一代电子产品对互连密度和机械柔性的需求。书中详细剖析了超细线路制作(Sub-micron Traces)的技术挑战,包括: 1. 微影曝光技术:从i线到EUV光刻在精细线路图形转移中的局限性与选择。 2. 电镀填充技术:在高深宽比微通道内实现无孔洞(Void-free)铜填充的抑制剂/加速剂体系的动力学控制。 在柔性电子领域,本书侧重于增材制造(3D Printing)在构建多层、可弯曲电子电路中的潜力。讨论了喷墨打印、气溶胶喷射打印等技术在沉积导电油墨(银纳米线、铜纳米颗粒)方面的精度控制、干燥过程的微观结构演变以及最终的烧结固化工艺对电阻率的影响。 第六部分:质量控制与无损检测 先进制造工艺的复杂性要求更加精密的质量保证体系。本部分详细介绍了用于微米级缺陷检测和结构验证的无损检测(NDT)方法。 重点介绍了X射线层析成像(XRT/CT)在三维内部结构可视化方面的应用,如何利用高分辨率CT扫描来识别TSV内部的空隙、键合界面的脱层以及内部导线的开路。此外,还包含了超声波C扫描在评估大面积键合界面均匀性上的优势,以及扫描声学显微镜(SAM)对微小空洞的定位和尺寸测量技术。书中强调了统计过程控制(SPC)在维持高成品率中的重要性。 --- 总结: 《高精度微纳加工与表面工程:先进封装与异构集成的前沿技术》旨在为从事微电子、光电子、MEMS以及先进材料科学的研究人员、工程师和高年级学生提供一个全面、深入的技术参考,指导他们掌握构建下一代高性能、高集成度电子系统的关键制造技术与科学原理。本书的重点在于结构构建的精度、界面的物理化学控制以及系统级的可靠性验证。

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