Layout Minimization of CMOS Cells

Layout Minimization of CMOS Cells pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

出版者:Springer
作者:Robert L. Maziasz
出品人:
页数:192
译者:
出版时间:1991-10-31
价格:USD 185.00
装帧:Hardcover
isbn号码:9780792391821
丛书系列:
图书标签:
  • CMOS
  • 布局
  • 集成电路
  • 低功耗
  • 优化
  • 设计
  • VLSI
  • 半导体
  • 电子学
  • 工艺
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具体描述

深入探索先进集成电路设计与制造:面向复杂系统的优化挑战 图书名称: 《面向复杂系统的先进集成电路设计与优化:物理实现、功耗管理与可靠性保障》 图书简介: 本书是一部面向高等院校研究生、专业工程师以及前沿研究人员的深度技术专著,聚焦于现代大规模集成电路(IC)设计流程中的关键瓶颈——如何在高密度、多功能集成背景下,实现性能、功耗和面积(PPA)的全局最优平衡,并确保系统的长期可靠性。全书内容紧密围绕当前半导体技术节点(FinFET及展望中的Gate-All-Around结构)对设计方法学的严峻挑战展开,旨在提供一套全面、系统且极具前瞻性的优化理论与实践指南。 第一部分:超深亚微米工艺下的设计基础与物理极限 本部分首先为读者构建了理解现代IC设计复杂性的理论基石。它不再是停留在传统工艺模型的层面,而是深入剖析了28纳米及以下节点的物理效应,特别是量子隧穿、短沟道效应、以及工艺变异(Process Variation)对电路行为的深刻影响。 1.1 先进工艺节点下的器件建模与仿真: 详细阐述了从载流子输运到热效应的物理模型,重点探讨了寄生电阻和电容($R/C$)在互连网络中占据主导地位的现象。讨论了基于Monte Carlo方法的工艺角(Corner Case)分析,以及如何利用先进的SPICE模型(如BSIM-CMG)精确预测电路行为,强调了模型精度对设计迭代效率的重要性。 1.2 互连延迟与串扰的量化分析: 针对超高密度布线带来的信号完整性问题,本章深入研究了电磁耦合(Crosstalk)的非理想效应。引入了广义的传输线理论,讨论了屏蔽层、电源/地网络(Power/Ground Grid)设计对耦合噪声抑制的决定性作用。内容涵盖了时域和频域分析方法,指导读者设计出抗干扰能力强的全局互连结构。 1.3 时序分析的复杂化: 在高度并行的多核和异构架构中,静态时序分析(Static Timing Analysis, STA)面临着前所未有的挑战。本书详细解析了片上变异(On-Chip Variation, OCV)和高级时序模型(Advanced Timing Models)的应用。重点讨论了如何将跨电压域(Multi-Voltage Domain)和时钟域(Multi-Clock Domain)之间的交互效应纳入STA框架,确保在所有操作条件下满足时序收敛性。 第二部分:面向能效的系统级功耗管理 功耗已成为限制移动和边缘计算设备性能的首要因素。本部分着重于从系统架构、寄存器传输级(RTL)到物理实现的全流程功耗优化技术。 2.1 动态功耗的精确建模与削减策略: 深入探讨了动态功耗($alpha CV^2f$)的构成,并超越了简单的频率和电压缩减。详细介绍了自适应体偏置(Adaptive Body Biasing, ABB)和动态电压/频率调节(DVFS)在不同应用负载下的最优调度算法。重点分析了寄存器传输级(RTL)的门控技术(Clock Gating)的有效实现,避免了因不当门控导致的毛刺和恢复时间增加。 2.2 静态功耗与漏电控制: 随着阈值电压的降低,次阈值导通漏电(Subthreshold Leakage)成为主要能耗来源。本书系统阐述了基于多阈值(Multi-Threshold CMOS, MTCMOS)的设计方法,包括使用高Vt单元进行关键路径缓冲和使用低Vt单元加速非关键路径。详尽比较了睡眠晶体管(Sleep Transistors)的放置策略及其对唤醒延迟的影响。 2.3 架构级电源管理: 超越了单元层面的优化,本章探讨了电源门控(Power Gating)在模块级和IP块级的应用。讨论了如何设计隔离单元(Isolation Cells)和电平转换器(Level Shifters)来安全地切断电源,以及如何管理断电/上电序列,确保数据完整性。引入了电源管理单元(PMU)的设计范例,实现软硬件协同的电源域控制。 第三部分:物理实现的高级优化与布局规划策略 物理实现阶段是将抽象网表转化为可制造芯片的桥梁。本部分聚焦于如何在高密度下实现最优的布局布线结果,特别是针对先进封装和异构集成的需求。 3.1 宏单元布局与平面规划的协同优化: 在数十亿晶体管的设计中,宏单元(如SRAM、PLL、SerDes)的放置直接决定了整体性能和布线拥塞度。本书提出了基于流和密度约束的混合布局算法,旨在最小化长距离信号的绕线。重点讨论了如何处理模拟IP块与数字逻辑块之间的噪声隔离。 3.2 拥塞规避与布线可制造性设计(DFM): 详尽分析了布线拥塞(Congestion)的预测模型,并介绍了多层布线优化技术。讨论了如何利用虚拟走线(Virtual Routing)和布线规格调整来提前解决潜在的拥塞点。同时,结合先进封装的要求,探讨了线宽、间距的最小化与版图规则(DRC/LVS)的严格遵循。 3.3 信号完整性与电源网络设计优化: 本章回归物理层面对信号和电源完整性的保障。详细介绍了去耦电容(Decoupling Capacitors, Decap)的优化部署策略,如何根据局部电流尖峰需求,确定最佳的Decap尺寸、类型和放置位置。讨论了IR Drop(压降)分析的收敛性,以及通过加粗电源网络、引入缓冲器来满足瞬态电流需求的具体方法。 第四部分:面向可靠性与验证的系统级考量 现代芯片的寿命和可靠性是决定其商业价值的关键因素。本书将可靠性问题从单纯的制造缺陷扩展到长期的应力效应。 4.1 制造缺陷与可测试性设计(DFT): 系统阐述了扫描链(Scan Chain)的优化插入,以最小化对关键路径时序的影响,并实现最大化的故障覆盖率。讨论了内部时钟电路的自测试(Self-Test)结构设计,以及如何应对高密度设计带来的测试向量膨胀问题。 4.2 长期可靠性分析: 重点解析了影响芯片寿命的关键物理效应,包括电迁移(Electromigration, EM)和热点(Hot Spot)。本书提供了实用的EM裕度计算方法,并介绍了在布局布线阶段通过加宽关键路径的电流承载导线来避免早期失效的策略。同时,探讨了负偏压温度效应(NBTI)的累积影响及其在寿命周期内的时序退化补偿机制。 4.3 应对随机工艺变异(RCV): 超越了传统的PVT角分析,本部分关注随机性对电路性能带来的不可预测性。介绍了基于统计学的方法(如SRAM的BIST/P-FFR),以及如何通过设计冗余(Design Margin)和模糊逻辑单元(Fuzzy Logic Cells)的引入,在保证性能的同时,提升芯片在不同制造批次间的鲁棒性。 --- 通过对这些前沿主题的系统性梳理和深度解析,《面向复杂系统的先进集成电路设计与优化:物理实现、功耗管理与可靠性保障》为读者提供了一张在当前和未来半导体技术挑战中导航的路线图,强调设计方法学必须与深层次的物理学原理相结合,才能构建出下一代高性能、低功耗的集成电路系统。

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