Atomic Force Microscopy, Scanning Nearfield Optical Microscopy And Nanoscratching pdf epub mobi txt 電子書 下載2026

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出版者:Springer Verlag

作者:Kaupp, G.

出品人:

頁數:292

译者:

出版時間:

價格:1305.00 元

裝幀:HRD

isbn號碼:9783540284055

叢書系列:

圖書標籤:

• 原子力顯微鏡
• 掃描近場光學顯微鏡
• 納米劃痕
• 納米技術
• 錶麵分析
• 材料科學
• 納米材料
• 光學顯微鏡
• 微納機械測試
• 錶麵錶徵

尖端材料錶徵技術與納米加工：聚焦新型顯微技術與錶麵科學 本書聚焦於現代材料科學和納米技術領域中至關重要的幾類先進錶徵與加工技術，旨在為科研人員、工程師以及高年級本科生和研究生提供一個全麵且深入的理論與實踐指南。全書結構嚴謹，內容詳實，著重於從基礎原理齣發，係統闡述這些尖端工具的工作機製、實驗操作、數據解析，以及在不同科學前沿領域的實際應用。 第一部分：高分辨率形貌與力學成像的基礎——原子力顯微鏡（AFM）的深度剖析 本部分將原子力顯微鏡（Atomic Force Microscopy, AFM）置於核心地位，對其進行徹底而細緻的講解。我們不僅探討瞭AFM的基本成像模式——接觸模式（Contact Mode）、輕敲模式（Tapping Mode/Intermittent Contact Mode）和非接觸模式（Non-Contact Mode）的物理基礎、優缺點以及適用範圍，更深入挖掘瞭其背後的力學原理。 1.1 AFM的基礎物理與硬件架構： 詳細解析瞭力學傳感器的選擇（如探針的幾何形狀、彈簧常數），壓電掃描器的精確控製，以及反饋迴路的設計如何實現亞納米級的定位精度。我們著重討論瞭如何通過光束偏轉係統或基於電容的檢測係統來準確測量探針與樣品間的微小相互作用力。 1.2 高級成像技術與模式拓展： 突破傳統形貌成像的局限，本書詳細介紹瞭AFM在獲取材料物理特性方麵的能力。這包括： 力譜（Force Spectroscopy）： 闡述如何通過精確控製探針的加載和卸載過程，提取材料的彈性模量（楊氏模量）、粘附力、屈服強度以及黏彈性等關鍵力學參數。我們提供瞭不同模型（如Hertz模型、Derjaguin-Muller-Toporov (DMT)模型、Johnson-Kendall-Roberts (JKR)模型）在分析不同材料接觸行為時的適用性分析。 動態力學分析（DMA）與先進力學模式： 探討瞭如峰值保持模式（PeakForce Quantitative Nanomechanics, PFQNM）等新型模式，如何實現對樣品局部粘附力、儲能模量和損耗模量的快速、定量成像。 電學與磁學成像（Electrostatic/Magnetic Force Microscopy, EFM/MFM）： 深入講解瞭利用AFM對靜電力、介電特性和磁疇結構進行空間分辨測量的原理，包括雙通道掃描策略和信號處理方法。 熱學成像（Thermal Probe Microscopy）： 分析瞭如何利用熱探針實現對材料熱擴散係數和局部溫度分布的微納尺度測量。 1.3 樣品製備與環境控製： 強調瞭高質量AFM數據的前提是精細的樣品處理。內容涵蓋瞭軟物質、聚閤物、生物樣品以及半導體材料的超聲波清洗、真空乾燥、溶液塗覆等關鍵步驟。同時，對環境因素（如濕度、溫度波動、液體環境中的成像挑戰）的影響進行瞭詳盡的評估和解決方案的提齣。 第二部分：超越衍射極限——近場光學顯微鏡（SNOM/NSOM）的原理與應用 本書的第二部分將視野轉嚮瞭光學探測的前沿，詳細闡述瞭掃描近場光學顯微鏡（Scanning Near-field Optical Microscopy, SNOM，或稱NSOM）如何突破傳統衍射極限的限製，實現對納米尺度光場分布的直接成像。 2.1 近場光學理論基礎： 解釋瞭倏逝波（Evanescent Waves）在近場成像中的核心作用。詳細推導瞭菲涅爾方程在近場區域的近似形式，並闡述瞭光學信息是如何被限製在小於光波長尺寸的區域內。 2.2 SNOM的關鍵技術路綫： 重點介紹瞭實現近場探測的兩種主要機製： 基於探針的SNOM（Aperture SNOM）： 詳細分析瞭金屬塗覆的尖銳光縴探針的設計原理，包括光束耦閤、光縴尖端的結構優化（如圓孔、錐形尖端）以及有效孔徑對空間分辨率的決定性影響。討論瞭光束偏振、激發波長與分辨率之間的復雜關係。 基於錶麵等離激元（Surface Plasmon Polaritons, SPPs）的SNOM： 介紹瞭利用金屬納米結構（如棱柱耦閤或棱錐激發）在界麵上激發的錶麵等離激元場，並闡述瞭如何利用這些場進行超快、高靈敏度的光學成像。 2.3 SNOM在特定領域的應用範例： 提供瞭SNOM在光電器件、半導體量子結構、單分子光譜學以及生物光子學等領域的具體案例研究，突齣瞭其在分辨結構內部光場分布、局部電子態以及電荷遷移路徑方麵的獨特優勢。 第三部分：納米尺度的精確塑形——納米劃刻（Nanoscratching）與錶麵工程 本部分將重點放在瞭利用精密工具對材料錶麵進行受控的、亞微米尺度的機械加工和功能化技術上，主要圍繞納米劃刻展開。 3.1 納米劃刻的力學模型與過程控製： 深入探討瞭納米劃刻過程中的材料去除機製，區分瞭脆性去除（斷裂/剝落）和塑性去除（犁溝形成）的臨界條件。詳細分析瞭劃刻速度、法嚮載荷（垂直力）和側嚮載荷（切嚮力）對劃痕形貌、材料流動和損傷纍積的影響。 3.2 劃刻工具的選擇與優化： 比較瞭不同尖端幾何形狀（球形、錐形、刃形）的劃針在特定材料體係（如硬質陶瓷、薄膜塗層、聚閤物）上的劃刻特性，並討論瞭如何通過有限元分析（FEA）工具來預測劃刻過程中的應力分布。 3.3 劃刻的應用：功能化與錶麵修復： 展示瞭納米劃刻在多個工程領域中的實際用途： 誘導微觀結構： 利用劃刻創建有序的微溝槽陣列，以引導液滴鋪展、控製細胞生長方嚮或構建錶麵增強拉曼散射（SERS）基底。 薄膜的失效分析： 將納米劃刻作為一種標準化的方法來測試塗層與基底之間的附著力，確定臨界劃痕載荷。 圖案化與集成電路： 討論瞭如何利用高度受控的劃刻技術在特定區域“激活”材料的反應性，或用於製造亞微米級的掩模圖案。 第四部分：多技術集成與未來展望 最後一部分將前述技術進行整閤，探討瞭如何將AFM、SNOM和納米劃刻結閤起來，形成更強大的錶徵-加工-再錶徵的閉環係統。例如，利用AFM進行劃刻操作，隨後利用SNOM在同一區域測量光場響應，最後再用AFM分析材料的微觀結構變化，從而實現對納米加工過程的實時反饋與優化。本章展望瞭這些技術在量子計算、高密度信息存儲以及生物醫學器件製造中的未來發展方嚮。 全書注重理論深度與實驗操作的緊密結閤，通過豐富的圖錶和案例分析，確保讀者能夠有效地掌握這些復雜技術的精髓。

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