Atomic Force Microscopy, Scanning Nearfield Optical Microscopy And Nanoscratching pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

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出版者:Springer Verlag

作者:Kaupp, G.

出品人:

页数:292

译者:

出版时间:

价格:1305.00 元

装帧:HRD

isbn号码:9783540284055

丛书系列:

图书标签:

• 原子力显微镜
• 扫描近场光学显微镜
• 纳米划痕
• 纳米技术
• 表面分析
• 材料科学
• 纳米材料
• 光学显微镜
• 微纳机械测试
• 表面表征

尖端材料表征技术与纳米加工：聚焦新型显微技术与表面科学 本书聚焦于现代材料科学和纳米技术领域中至关重要的几类先进表征与加工技术，旨在为科研人员、工程师以及高年级本科生和研究生提供一个全面且深入的理论与实践指南。全书结构严谨，内容详实，着重于从基础原理出发，系统阐述这些尖端工具的工作机制、实验操作、数据解析，以及在不同科学前沿领域的实际应用。 第一部分：高分辨率形貌与力学成像的基础——原子力显微镜（AFM）的深度剖析 本部分将原子力显微镜（Atomic Force Microscopy, AFM）置于核心地位，对其进行彻底而细致的讲解。我们不仅探讨了AFM的基本成像模式——接触模式（Contact Mode）、轻敲模式（Tapping Mode/Intermittent Contact Mode）和非接触模式（Non-Contact Mode）的物理基础、优缺点以及适用范围，更深入挖掘了其背后的力学原理。 1.1 AFM的基础物理与硬件架构： 详细解析了力学传感器的选择（如探针的几何形状、弹簧常数），压电扫描器的精确控制，以及反馈回路的设计如何实现亚纳米级的定位精度。我们着重讨论了如何通过光束偏转系统或基于电容的检测系统来准确测量探针与样品间的微小相互作用力。 1.2 高级成像技术与模式拓展： 突破传统形貌成像的局限，本书详细介绍了AFM在获取材料物理特性方面的能力。这包括： 力谱（Force Spectroscopy）： 阐述如何通过精确控制探针的加载和卸载过程，提取材料的弹性模量（杨氏模量）、粘附力、屈服强度以及黏弹性等关键力学参数。我们提供了不同模型（如Hertz模型、Derjaguin-Muller-Toporov (DMT)模型、Johnson-Kendall-Roberts (JKR)模型）在分析不同材料接触行为时的适用性分析。 动态力学分析（DMA）与先进力学模式： 探讨了如峰值保持模式（PeakForce Quantitative Nanomechanics, PFQNM）等新型模式，如何实现对样品局部粘附力、储能模量和损耗模量的快速、定量成像。 电学与磁学成像（Electrostatic/Magnetic Force Microscopy, EFM/MFM）： 深入讲解了利用AFM对静电力、介电特性和磁畴结构进行空间分辨测量的原理，包括双通道扫描策略和信号处理方法。 热学成像（Thermal Probe Microscopy）： 分析了如何利用热探针实现对材料热扩散系数和局部温度分布的微纳尺度测量。 1.3 样品制备与环境控制： 强调了高质量AFM数据的前提是精细的样品处理。内容涵盖了软物质、聚合物、生物样品以及半导体材料的超声波清洗、真空干燥、溶液涂覆等关键步骤。同时，对环境因素（如湿度、温度波动、液体环境中的成像挑战）的影响进行了详尽的评估和解决方案的提出。 第二部分：超越衍射极限——近场光学显微镜（SNOM/NSOM）的原理与应用 本书的第二部分将视野转向了光学探测的前沿，详细阐述了扫描近场光学显微镜（Scanning Near-field Optical Microscopy, SNOM，或称NSOM）如何突破传统衍射极限的限制，实现对纳米尺度光场分布的直接成像。 2.1 近场光学理论基础： 解释了倏逝波（Evanescent Waves）在近场成像中的核心作用。详细推导了菲涅尔方程在近场区域的近似形式，并阐述了光学信息是如何被限制在小于光波长尺寸的区域内。 2.2 SNOM的关键技术路线： 重点介绍了实现近场探测的两种主要机制： 基于探针的SNOM（Aperture SNOM）： 详细分析了金属涂覆的尖锐光纤探针的设计原理，包括光束耦合、光纤尖端的结构优化（如圆孔、锥形尖端）以及有效孔径对空间分辨率的决定性影响。讨论了光束偏振、激发波长与分辨率之间的复杂关系。 基于表面等离激元（Surface Plasmon Polaritons, SPPs）的SNOM： 介绍了利用金属纳米结构（如棱柱耦合或棱锥激发）在界面上激发的表面等离激元场，并阐述了如何利用这些场进行超快、高灵敏度的光学成像。 2.3 SNOM在特定领域的应用范例： 提供了SNOM在光电器件、半导体量子结构、单分子光谱学以及生物光子学等领域的具体案例研究，突出了其在分辨结构内部光场分布、局部电子态以及电荷迁移路径方面的独特优势。 第三部分：纳米尺度的精确塑形——纳米划刻（Nanoscratching）与表面工程 本部分将重点放在了利用精密工具对材料表面进行受控的、亚微米尺度的机械加工和功能化技术上，主要围绕纳米划刻展开。 3.1 纳米划刻的力学模型与过程控制： 深入探讨了纳米划刻过程中的材料去除机制，区分了脆性去除（断裂/剥落）和塑性去除（犁沟形成）的临界条件。详细分析了划刻速度、法向载荷（垂直力）和侧向载荷（切向力）对划痕形貌、材料流动和损伤累积的影响。 3.2 划刻工具的选择与优化： 比较了不同尖端几何形状（球形、锥形、刃形）的划针在特定材料体系（如硬质陶瓷、薄膜涂层、聚合物）上的划刻特性，并讨论了如何通过有限元分析（FEA）工具来预测划刻过程中的应力分布。 3.3 划刻的应用：功能化与表面修复： 展示了纳米划刻在多个工程领域中的实际用途： 诱导微观结构： 利用划刻创建有序的微沟槽阵列，以引导液滴铺展、控制细胞生长方向或构建表面增强拉曼散射（SERS）基底。 薄膜的失效分析： 将纳米划刻作为一种标准化的方法来测试涂层与基底之间的附着力，确定临界划痕载荷。 图案化与集成电路： 讨论了如何利用高度受控的划刻技术在特定区域“激活”材料的反应性，或用于制造亚微米级的掩模图案。 第四部分：多技术集成与未来展望 最后一部分将前述技术进行整合，探讨了如何将AFM、SNOM和纳米划刻结合起来，形成更强大的表征-加工-再表征的闭环系统。例如，利用AFM进行划刻操作，随后利用SNOM在同一区域测量光场响应，最后再用AFM分析材料的微观结构变化，从而实现对纳米加工过程的实时反馈与优化。本章展望了这些技术在量子计算、高密度信息存储以及生物医学器件制造中的未来发展方向。 全书注重理论深度与实验操作的紧密结合，通过丰富的图表和案例分析，确保读者能够有效地掌握这些复杂技术的精髓。

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