Handbook of Microlithography, Micromachining and Microfabrication

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isbn号码:9780852969106
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  • Microlithography
  • Micromachining
  • Microfabrication
  • MEMS
  • Semiconductor Manufacturing
  • Nanotechnology
  • Materials Science
  • Engineering
  • Surface Science
  • Thin Films
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具体描述

好的,这是一本关于高级材料科学与工程的图书简介,内容详尽,旨在为读者提供一个全面且深入的视角,涵盖当前材料领域的前沿研究与应用。 --- 图书名称: 前沿材料的理论基础与器件集成:从纳米结构到宏观性能 图书简介 本书旨在为材料科学家、工程师、研究生以及对跨学科研究感兴趣的专业人士,提供一个关于当代先进材料体系的理论框架、合成方法、表征技术以及功能化器件集成的全面、深入的参考。本书的重点在于构建从原子尺度理解材料的内在物理化学性质,到如何将这些性质转化为可实际应用的宏观功能器件的桥梁。 第一部分:基础理论与计算方法 本部分着重于支撑现代材料科学的理论基石。我们首先回顾了凝聚态物理和量子化学的基础概念,特别是如何利用这些工具来预测和解释材料的行为。 第一章:材料的电子结构与能带理论的深化:详细阐述了周期性晶体中的电子行为,包括Bloch定理、布里渊区以及各种近似方法(如密度泛函理论DFT)。特别关注了如何处理复杂体系,如缺陷、界面和非晶态材料的电子结构计算。我们深入探讨了自洽场方法(SCF)的收敛性挑战以及高精度的势能面构建。 第二章:热力学与相图的计算建模:聚焦于利用第一性原理方法计算材料的热力学稳定性,包括吉布斯自由能、形成能和反应动力学。内容覆盖了 CALPHAD 方法(计算相图)在预测多组分体系相变中的应用,以及如何结合蒙特卡洛(MC)和分子动力学(MD)模拟来研究扩散过程和微结构演化。 第三章:计算材料学的先进工具与验证:介绍了计算材料学领域最新的软件工具包和算法,包括机器学习(ML)在加速材料搜索中的潜力。重点讨论了计算结果的实验验证策略,如如何将模拟的谱学数据(如X射线吸收谱XAS、拉曼散射)与实验测量进行准确比对。 第二部分:功能化纳米结构与低维材料 本部分深入探讨了在二维(2D)和零维(0D)尺度上,材料展现出的独特量子效应和界面效应,这些是实现下一代高性能器件的关键。 第四章:二维材料的合成与界面工程:系统介绍了石墨烯、过渡金属硫化物(TMDs)以及黑磷的原子层沉积(ALD)和化学气相沉积(CVD)的最新进展。核心内容聚焦于界面效应,如范德华异质结构的构建、层间耦合的调控,以及如何通过掺杂和表面官能团化来精确调控载流子浓度和能带结构。 第五章:量子点与纳米晶体的光学性质:详细分析了半导体量子点(QDs)的尺寸量子限域效应及其对光吸收和发射光谱的影响。讨论了钝化策略(如表面配体工程)在提高荧光量子产率和稳定性方面的关键作用。内容还包括了利用这些纳米晶体实现高效光催化和生物成像的应用实例。 第六章:拓扑材料与自旋电子学:本章介绍了拓扑绝缘体和拓扑半金属的理论分类及其独特的表面/边缘态。重点阐述了如何利用自旋轨道耦合来设计具有优异自旋-电荷转换效率的材料,以及在非易失性存储器(如MRAM)中应用磁性隧道结(MTJ)的物理基础。 第三部分:结构材料与先进制造工艺的集成 本部分将焦点从基础电子材料拓展到对机械、热学和能源应用至关重要的结构与复合材料,并探讨了先进制造技术如何实现这些复杂结构的功能化。 第七章:高熵合金(HEAs)与极端条件材料:深入探讨了高熵合金的设计理念,即通过随机分布的元素来抑制传统相变,从而获得优异的强度、延展性及耐腐蚀性。讨论了辐照损伤机制在核能材料中的演化,以及如何利用高通量筛选来优化其微观结构。 第八章:多孔材料与能源储存:分析了金属有机框架(MOFs)和共价有机框架(COFs)在气体吸附、分离和储能方面的潜力。详细介绍了孔隙结构设计对吸附焓和动力学的影响,并结合电化学测试方法研究了它们在锂离子电池和超级电容器中的应用性能。 第九章:增材制造与功能梯度材料(FGMs):本章探讨了先进的激光熔融沉积(SLM)和定向能量沉积(DED)技术,如何实现对材料微观结构和性能的各向异性控制。重点分析了在制造过程中,由于温度梯度和冷却速率差异所导致的材料内部残余应力和微观组织偏析问题,并提出了优化扫描策略以制造具有精确性能梯度剖面的结构。 第十章:智能材料与传感系统集成:本部分介绍了形状记忆合金、压电陶瓷以及电活性聚合物的本构关系和驱动机制。讨论了如何将这些响应性材料与微电子系统进行异构集成,以构建自适应结构、生物兼容性驱动器和高灵敏度的环境传感器阵列。 全书的叙事结构紧密围绕“从原子到系统”的转化逻辑展开,强调理论预测与实验观测的相互印证,旨在为读者提供一个理解和设计下一代高性能材料的综合性知识体系。本书的深度和广度,使其成为相关领域研究人员和工程师不可或缺的工具书。

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总的来说,这部巨著的价值在于其无与伦比的系统性和对前沿工艺的深刻洞察。它不仅仅是一本工具书,更像是一份工业界的“行动指南”。阅读过程中,我注意到编撰者在每一个章节的结尾都设置了“未来展望”或者“当前挑战”的小节,这使得全书的知识体系始终保持着面向未来的前瞻性。例如,在讨论下一代制造技术时,它对增材制造(Additive Manufacturing)在微米级分辨率下的潜力进行了审慎的评估,并将其与传统的光刻工艺进行了效率和成本的对比分析,而不是盲目地鼓吹新技术。这种平衡、客观的论述风格,避免了将技术浪漫化的倾向,使得读者能够基于充分的数据和原理做出理性的技术判断。这本书的索引和术语表做得非常详尽,查阅资料时极为方便,体现了出版方对专业读者的尊重。对于希望从初级技术人员蜕变为系统设计专家的专业人士而言,这本书提供了一个从原子级控制到系统级集成的完整知识框架,是值得反复研读和珍藏的里程碑式著作。

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读到关于微器件封装与表征的部分,我感到一种强烈的“收尾感”——即如何将这些精密的微结构固定、连接并可靠地测试。许多技术书籍在制造工艺讲完后往往草草收场,但这本书却花了大量篇幅来处理实际应用中的关键挑战。关于封装,它详细介绍了键合技术(Bonding Techniques),从传统的烧结键合到更精密的混合键合(Hybrid Bonding),并重点分析了热应力、气密性以及跨材料界面的可靠性问题。这些都是在实际产品开发中决定成败的关键因素。而在表征方面,书中并未局限于传统的电学测试,而是详尽介绍了光学方法(如白光干涉仪)和力学方法(如原子力显微镜下的局部力学性能测试)在微观结构形貌和应力分析中的应用。我特别喜欢它在这一章中穿插的“失效分析案例库”,通过逆向工程的方式,展示了制造缺陷如何导致最终器件失效,这种“反面教材”的教学方式,对于我们预防性地设计工艺流程,具有极强的指导意义。这本书的实用性在这里得到了完美的体现。

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这本书的深度和广度简直令人咋舌,尤其是在介绍光刻技术(Lithography)的章节,那种细致入微的程度,让我感觉自己像是坐进了最先进的半导体工厂里,亲眼观察着每一步的精密操作。它不仅仅停留在对现有主流技术的描述,比如深紫外光刻(DUV)或极紫外光刻(EUV)的基本原理,更深入地探讨了这些技术背后的衍射极限、掩模制作的误差分析以及光刻胶的分子设计。我发现书中用了一个非常巧妙的比喻来解释瑞利判据(Rayleigh Criterion)的限制,一下子就明白了为什么不断缩短波长是多么艰难的挑战。而且,作者在讨论先进节点技术时,非常务实地分析了侧壁粗糙度(Sidewall Roughness)和随机缺陷(Stochastic Defects)这两大“拦路虎”的成因和应对策略。这不像一些学术论文那样只提出概念,而是提供了大量基于实验数据的对比分析,让读者能够权衡不同工艺选择的优劣。这种对技术瓶颈的深刻洞察,使得这本书不仅是教科书,更像是资深工程师的经验总结。对于任何想在IC制造领域深耕的人来说,这部分的知识密度和实用价值都是顶级的。

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这本书的封面设计很有意思,那种深邃的蓝色调,配上简洁的白色字体,给人一种既专业又有点神秘的感觉,就像是通往微观世界的一扇门。我初次翻开它的时候,立刻被它清晰的结构和严谨的逻辑所吸引。首先,它在材料科学的基础部分讲解得极为透彻,对于不同类型微纳加工材料的特性、选择标准以及预处理方法,都有非常详尽的论述。特别是对于一些新型功能性薄膜材料的介绍,不仅停留在理论层面,还穿插了大量的实际应用案例和数据图表,这对于我们这些需要将理论应用于实际工程设计的人来说,简直是宝典。作者显然在相关领域有着深厚的积累,他没有一味堆砌复杂的公式,而是用一种非常直观的方式,将复杂的物理和化学过程分解成易于理解的步骤。我特别欣赏其中对于环境因素如何影响微加工过程的探讨,这一点往往在很多入门级书籍中被忽略,但对最终产品质量却至关重要。书中的插图清晰度极高,无论是电子显微镜下的形貌图还是工艺流程示意图,都无可挑剔,使得读者可以非常直观地把握每一个制造环节的关键点。总的来说,这份开篇的导论部分,为后续深入学习打下了极其坚实的基础,让人迫不及待想深入探索接下来的技术细节。

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在探讨微机械加工(Micromachining)的部分,本书展现出了极强的跨学科整合能力。它巧妙地将机械工程、材料科学和电化学等多个领域的知识点融会贯通,构建了一个完整的MEMS器件制造体系。我特别留意了湿法刻蚀(Wet Etching)和干法刻蚀(Dry Etching)的对比章节。作者没有简单地罗列刻蚀液或等离子体的种类,而是深入剖析了各向异性刻蚀(Anisotropic Etching)与各向同性刻蚀(Isotropic Etching)的机理差异,并通过大量的SEM截面图展示了硅晶圆上获得的结构形状控制的微妙之处。更有价值的是,它对深层刻蚀技术,比如Bosch工艺的优化参数空间进行了细致的梳理,包括如何控制侧壁的沉积-刻蚀周期比(DC Ratio)以获得高深宽比结构。此外,对于非硅基材料(如聚合物和金属)的微加工,例如LIGA技术和喷墨打印技术在生物传感器中的应用,也有相当篇幅的介绍,这极大地拓宽了我的视野,让我意识到微制造早已不再是硅片的专属舞台。这种对不同材料体系加工特性的全面覆盖,体现了编撰者的广博学识。

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