电子技术工艺基础

电子技术工艺基础 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

出版者:
作者:刘洪涛 编
出品人:
页数:242
译者:
出版时间:2007-6
价格:22.00元
装帧:
isbn号码:9787811145472
丛书系列:
图书标签:
  • 电子技术
  • 电子工艺
  • 基础知识
  • 电路原理
  • 元器件
  • 焊接技术
  • 实操
  • 入门
  • DIY
  • 维修
想要找书就要到 小美书屋
立刻按 ctrl+D收藏本页
你会得到大惊喜!!

具体描述

《电子技术工艺基础》是为了适应中等职业教育的培养目标和教育特点,遵循“以必需、够用为度”和“强化应用、培养技能”的原则,突出中职教育特色而编写的。《电子技术工艺基础》共分9章,内容包括:基本元器件和基本仪器、电路图的识读及印刷电路板的翻绘、常用装配工具与基本器件装接、焊接与焊接技术、印刷电路板、常用仪器仪表及使用、电子装配工艺基础、电子线路的检测、生产线管理。

《电子技术工艺基础》适用于机械、机电类等应用技术类专业的学生使用,也可作为相关行业人员的培训用书。

《实用电子元件精析与应用手册》 本书是一本面向广大电子爱好者、技术人员和学生的实用工具书,旨在为读者提供一个全面、深入了解各类电子元件的知识体系,并掌握其在实际电路设计与应用中的技巧。我们力求内容详实,图文并茂,使读者能够快速掌握所需信息,提升实践能力。 核心内容概述: 本书共分为五个主要部分,每个部分都围绕电子元件的“知其然”与“知其所以然”展开,并辅以丰富的实例分析,确保理论与实践的紧密结合。 第一部分:基础电子元件详解(电阻、电容、电感) 电阻器 (Resistors): 原理与分类: 详细介绍电阻的欧姆定律,解释电阻的产生机制。涵盖固定电阻(碳膜、金属膜、氧化膜、线绕等)的结构、特性、优缺点及适用场景。深入剖析可变电阻(电位器、可调电阻)的构造原理、调节方式及其在音量控制、参数设定等方面的应用。 参数解读: 讲解标称阻值、阻值偏差、功率额定值、温度系数、阻值稳定性等关键参数的含义及其对电路性能的影响。 选型与应用: 提供电阻在限流、分压、负载、衰减等典型电路中的应用案例,指导读者如何根据电路需求选择合适的电阻类型和规格。重点讨论高精度电阻、精密可调电阻在测试仪器、音频设备等领域的特殊要求。 失效分析与判别: 介绍电阻常见的失效模式(开路、短路、阻值漂移),以及如何通过外观检查、万用表测量等方法进行判别。 电容器 (Capacitors): 原理与分类: 解释电容器的储能原理,详细介绍各类电容器的介质材料、结构特点和工作频率范围。包括陶瓷电容(高频、低频)、电解电容(铝电解、钽电解)、薄膜电容(涤纶、聚丙烯)、云母电容等。 参数解读: 深入讲解电容量、耐压值、损耗角正切(ESR)、漏电流、温度特性、频率响应等重要参数。特别强调ESR对高频电路和滤波电路性能的影响。 选型与应用: 演示电容器在隔直、耦合、滤波、储能、定时、谐振等电路中的作用,分析不同类型电容器的优势和局限性。提供实际电路设计中关于电容容量、耐压值、ESR选取的指导。 失效分析与判别: 讲解电解电容“鼓包”、“漏液”等典型失效现象,介绍如何通过外观、容量测量、ESR测试等手段进行判断。 电感器 (Inductors): 原理与分类: 阐述电感器的电磁感应原理,介绍电感器的组成部分(磁芯、线圈)。详细介绍空心电感、铁氧体磁芯电感、铁芯电感、复合磁芯电感等结构及其特点。 参数解读: 讲解电感量、品质因数(Q值)、直流电阻(DCR)、额定电流、饱和电流、自谐频率等关键参数。 选型与应用: 演示电感器在滤波(LC滤波、扼流)、储能(开关电源)、振荡、耦合、耦合变压器等电路中的应用。指导读者如何根据频率、电流、Q值等要求选择合适的电感器。 失效分析与判别: 介绍电感线圈断路、短路、磁芯损坏等常见失效原因,以及测量方法。 第二部分:半导体器件核心技术(二极管、三极管、场效应管) 二极管 (Diodes): PN结原理: 深入讲解PN结的形成、单向导电性、反向漏电等基本原理。 类型与特性: 详细介绍通用二极管、整流二极管(桥堆)、稳压二极管(齐纳管)、发光二极管(LED)、肖特基二极管、光电二极管等各类二极管的工作特性、伏安特性曲线,以及它们在正向导通、反向截止时的行为。 参数解读: 讲解最大正向电流、反向耐压、反向漏电流、正向压降、最高工作频率等参数。 选型与应用: 演示二极管在整流、滤波、钳位、保护、指示、光电转换等电路中的应用。特别介绍稳压二极管的稳压原理和应用,LED的驱动和亮度控制。 失效分析与判别: 讲解二极管烧毁、漏电、开路等失效模式,以及如何通过万用表进行 diode test。 三极管 (Transistors - BJT): PNP与NPN结构: 详细介绍三极管的结构、工作原理,以及共发射极、共集电极、共基极三种基本放大电路的工作特性。 放大与开关: 深入分析三极管的放大区、饱和区、截止区,讲解电流放大系数(β)、输入电阻、输出电阻等关键参数。 参数解读: 讲解集电极最大允许耗散功率、集电极最大允许集电极电流、反向击穿电压、漏电流等。 选型与应用: 提供三极管在放大电路(信号放大)、开关电路(作为开关控制大电流)、振荡电路等中的应用实例。指导读者如何根据所需增益、功率、工作频率选择合适的三极管。 失效分析与判别: 介绍三极管烧毁、参数漂移等失效原因,测量方法。 场效应管 (Field-Effect Transistors - FET): JFET与MOSFET: 详细介绍结型场效应管(JFET)和金属-氧化物-半导体场效应管(MOSFET)的结构、工作原理(电压控制电流),以及P沟道和N沟道类型的特性。 增强型与耗尽型: 深入分析MOSFET的增强型和耗尽型工作模式,讲解阈值电压(Vth)、栅-源电压(Vgs)、漏-源电压(Vds)、跨导(gm)等关键参数。 参数解读: 讲解漏极最大允许电流、漏极最大允许耗散功率、击穿电压、导通电阻(RDS(on))等。 选型与应用: 演示场效应管在开关电路(低损耗开关)、高频放大电路、功率驱动电路、模拟开关等领域的应用。特别强调MOSFET作为开关应用的优势。 失效分析与判别: 介绍静电损坏、过压损坏等MOSFET常见失效模式,以及测量方法。 第三部分:集成电路基础与常见应用 集成电路基本概念: 讲解集成电路由什么构成,封装形式(DIP, SOP, QFP等),以及集成电路与分立元件的区别与优势。 运算放大器 (Operational Amplifiers - Op-Amp): 基本原理与理想模型: 介绍运算放大器的差分输入、单端输出特性,虚短、虚断等理想运放特性。 基本应用电路: 详细解析同相放大器、反相放大器、电压跟随器、加法器、减法器、积分器、微分器等经典运放电路。 参数解读: 讲解开环增益、带宽、输入失调电压、输入偏置电流、转换速率(Slew Rate)等。 选型与应用: 指导读者根据信号类型、频率、精度要求选择合适的运放。提供在信号处理、滤波器、信号发生器等领域的应用示例。 集成稳压器 (Voltage Regulators): 线性稳压器: 介绍三端固定/可调线性稳压器(如78xx系列、LM317)的工作原理,以及如何实现稳定输出电压。 开关稳压器 (DC-DC Converters): 简述升压、降压、升降压转换器的基本工作模式,以及其高效能的优势。 选型与应用: 提供在各种供电电路中选择和应用稳压器的指南。 逻辑集成电路: TTL与CMOS: 介绍两种主流的逻辑集成电路系列,分析它们的特性(功耗、速度、抗干扰能力)。 基本逻辑门: 讲解与门、或门、非门、与非门、或非门、异或门等基本逻辑功能。 常用组合逻辑芯片: 介绍译码器、编码器、多路选择器、数据分配器等。 时序逻辑芯片: 讲解触发器(SR, D, JK, T)、计数器、移位寄存器等。 应用示例: 结合简单的组合和时序逻辑电路,演示其在数字控制、信号处理等方面的应用。 第四部分:传感器与执行器 传感器 (Sensors): 温度传感器: 介绍热敏电阻(NTC/PTC)、热电偶、集成温度传感器(如LM35)的工作原理和应用。 光传感器: 讲解光敏电阻、光电二极管、光电三极管、红外传感器等。 位移与压力传感器: 简要介绍电阻式、电容式、霍尔效应传感器等。 声音传感器: 讲解驻极体麦克风、压电陶瓷传感器等。 应用实例: 演示传感器在环境监测、自动控制、安防系统等领域的应用。 执行器 (Actuators): 继电器: 讲解电磁继电器、固态继电器的工作原理、触点类型及应用。 电机: 介绍直流电机、交流电机、步进电机、伺服电机的工作原理和基本驱动方法。 LED与数码管: 讲解LED显示、数码管显示的基本驱动电路。 蜂鸣器与扬声器: 介绍发声器件的驱动方式。 应用实例: 结合执行器,展示其在自动控制、指示、报警等方面的实际应用。 第五部分:电路分析与调试基础 电路分析工具: 万用表: 详细介绍万用表电阻、电压、电流、二极管档位的测量方法和注意事项。 示波器: 讲解示波器的基本操作,如时基、幅度、触发设置,以及如何观察波形、测量电压、频率、占空比等。 信号发生器: 介绍如何使用信号发生器产生各种测试信号(正弦波、方波、三角波等)。 典型电路的分析方法: 电阻分压与电流分配: 讲解如何计算简单串并联电路的电压和电流。 放大电路分析: 演示如何分析三极管和运放放大电路的增益、输入输出阻抗。 滤波电路分析: 讲解RC、RL、LC滤波电路的截止频率计算及效果。 常见故障排除思路: “三无”现象分析: 讲解电源、信号、输出无的分析步骤。 元器件损坏判别: 结合前面各部分内容,总结常见元器件的损坏迹象及测量方法。 调试技巧: 提供在实际调试过程中,如何系统地缩小故障范围的技巧。 本书特色: 结构清晰,循序渐进: 从基础元件到复杂集成电路,由浅入深,适合不同层次的读者。 内容详实,图文并茂: 配备大量原理图、实物图、波形图,帮助读者直观理解。 注重实践,案例丰富: 每个部分都提供实际应用电路分析,强调理论在实践中的应用。 语言通俗,易于理解: 避免使用过于晦涩的专业术语,力求表达清晰明了。 工具性强,实用性高: 旨在成为读者在电子制作和电路设计过程中的得力助手。 无论您是初学者,还是有一定基础的爱好者,亦或是专业的电子技术人员,本书都将为您提供宝贵的知识和实用的指导,帮助您在电子技术的世界里更加游刃有余。

作者简介

目录信息

读后感

评分

评分

评分

评分

评分

用户评价

评分

我花了整整一个周末的时间,沉浸在这本书的阅读体验中。我必须得说,它的叙事方式非常“工程师导向”,没有太多花哨的比喻,一切都基于严谨的物理定律和实验数据。我原本以为会看到很多关于未来趋势的预测或者市场分析,但这本书显然避开了这些“虚头巴脑”的东西,完全专注于“如何实现”和“为什么这样做”。举个例子,它在讲解薄膜沉积技术时,对PVD和CVD的区别做了极其细致的对比,包括真空度的要求、气体的流体力学模型,甚至提到了不同衬底材料对薄膜应力的影响。这部分内容,对于想深入了解材料科学与器件性能关系的人来说,绝对是宝藏。不过,我必须坦白,这本书的内容深度在某些方面让我感到略有不足。比如,它对先进封装技术,特别是异构集成和高密度互连(HDI)的讨论,似乎停留在较为基础的层面,对最新的热管理挑战和先进介质材料的介绍就显得有些保守了。我期待能看到更多关于这些领域突破性的工艺创新,但这本书似乎更像是对“经典”电子制造流程的一次全面而深刻的复盘,而非对未来五年技术演进的预测报告。它更像是一本可以随时翻阅的工艺手册,而不是一本展望未来的宣言。

评分

我拿到这本书时,本来是想找一本能快速了解行业概况的“导览图”,结果发现它更像是一本深入到地下的“勘探报告”。它没有描绘宏伟的蓝图,而是细致地展示了构成蓝图的每一块砖石的成分和烧制方法。比如,关于化学机械抛光(CMP)的章节,详细讨论了抛光液的配方、磨盘的材料选择,以及如何控制表面的粗糙度和残余应力,这些都是极度细节化的内容。这对于真正想在工艺研发岗位上有所建树的人来说,是无价之宝。但对于那些对工艺原理有大致了解,更关心如何利用现有工艺平台进行快速原型设计(Prototyping)的工程师而言,这本书可能显得有些“过重”了。它并没有提供太多关于如何“绕过”现有工艺限制或者如何进行快速工艺迭代的指导。它教会你如何造好一块芯片,但没有告诉你如何快速地在市场上推出一个新产品。总而言之,它是一本扎根于材料科学和物理化学的厚重之作,专注于基础的、可重复的、可量化的制造环节,对那些偏向于设计集成和快速迭代的领域则有所保留。

评分

这本书,说实话,拿到手的时候我真是眼前一亮。封面设计很现代,那种简约中透着科技感的风格,一下子就抓住了我的注意力。我本来以为这种偏基础的教材,内容会比较枯燥,但翻开目录才发现,编排得相当有条理。它似乎没有涵盖我想象中的那些高深莫测的“黑科技”——比如量子计算或者最新的纳米材料应用——更像是打地基的那种实在功夫。我特别关注了其中关于半导体制造工艺流程的那几章,细节描述得非常扎实,从晶圆的准备到最后的封装测试,每一步的原理和关键控制点都讲得清清楚楚。这对于我们这些初入行的新人来说,简直是救命稻草。我发现它在介绍传统工艺时,没有陷入过时的泥潭,而是用现代的视角去审视每一个历史步骤的意义。比如,它对光刻技术的解析,深入到了衍射极限和掩模版的制作精度,这些内容在我之前看的几本入门书里都是一笔带过,但这本书花了大量的篇幅来阐述,让我对整个微电子世界的“雕刻”艺术有了更深的敬畏。虽然它没有涉及最新的三维集成电路(3D IC)或者Chiplet技术,但它为理解这些前沿技术背后的物理基础打下了极其坚实的地基。我感觉,读完这本书,再去看那些高大上的前沿论文,就像是手里拿着一张清晰的地图,而不是在迷雾中摸索。

评分

从一个侧重于系统架构和软件开发的读者的角度来看,这本书提供了一个非常必要的“反向工程”视角。我们常常在软件层面讨论延迟、功耗和带宽,但很少有机会真正深入到物理层面去理解这些参数是如何被制造工艺所限制和决定的。这本书很好地弥补了我的知识盲区。特别是它对良率(Yield)分析的章节,让我第一次直观地理解了为什么一个小小的工艺缺陷会导致整个芯片报废。书中关于缺陷的统计模型和控制方法,讲解得非常透彻,那种从原子层面到整个晶圆尺度的尺度放大感非常震撼。然而,这本书几乎完全聚焦于半导体器件的“制造”本身,对于更宏观的电子系统层面,比如PCB设计规范、电磁兼容性(EMC)的工艺影响,或者特定应用场景(如射频电路或高功率器件)的工艺优化,着墨甚少。我原本希望它能提供一个更全面的“从硅到系统”的视角,但它坚定地选择扎根于“制造工艺”这一核心领域,对于希望将知识立即应用到PCB Layout或系统集成的读者来说,可能需要搭配其他书籍来补足这部分内容。这本书的价值在于让你知道“硅片上发生了什么”,而不是“系统如何被组装”。

评分

这本书的语言风格可以说是朴实无华,直指核心。没有那种为了吸引眼球而堆砌的技术术语,也没有过于简化的比喻导致信息失真。它的图表绘制得非常清晰,那些流程图和结构示意图,一看便知。我特别欣赏它在解释复杂物理现象时所采取的循序渐进的方法,比如描述离子注入的能量分布和剂量控制,作者没有直接抛出复杂的偏微分方程,而是先从粒子在电场中的运动轨迹入手,逐步引导读者理解为什么需要特定的加速电压。这让阅读过程中的挫败感大大降低。不过,这种“严谨”也带来了一个小小的遗憾:对于一些新兴的、尚未完全标准化的“非主流”工艺路线,比如柔性电子的材料体系,或者一些非常前沿的量子器件的制造尝试,书中几乎没有涉及。它似乎更倾向于那些已经经过数十年验证、成熟稳定的工业标准流程。因此,如果读者期望这本书能涵盖所有最新、最炫酷的研究热点,可能会感到失望。它更像是教科书式的经典传授,而非学术前沿的速览手册。

评分

评分

评分

评分

评分

本站所有内容均为互联网搜索引擎提供的公开搜索信息,本站不存储任何数据与内容,任何内容与数据均与本站无关,如有需要请联系相关搜索引擎包括但不限于百度google,bing,sogou

© 2026 book.quotespace.org All Rights Reserved. 小美书屋 版权所有