真空工艺与实验技术

真空工艺与实验技术 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

出版者:冶金工业出版社
作者:张以忱
出品人:
页数:509
译者:
出版时间:2006-8
价格:45.00元
装帧:简裝本
isbn号码:9787502440206
丛书系列:
图书标签:
  • 真空技术
  • 真空工艺
  • 真空实验
  • 实验技术
  • 材料科学
  • 物理学
  • 工程技术
  • 仪器仪表
  • 科学研究
  • 工业应用
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具体描述

全书共分8章,主要内容有:真空材料的表面净化处理、真空材料的除气、真空系统的检测技术、真空系统内残余气体的分析与测量、真空系统的操作与维护、真空工程用焊接技术、真空工程封接技术、真空器件的电击穿及预防措施。

  本书集基础理论和实践应用技术于一体,理论与工程实践有机结合,适合于真空技术、薄膜与表面工程、材料工程、低温工程、应用物理、机械设计等行业从事研究、设计、设备操作与维护的技术人员,也适用于进行与真空技术相关的科学研究及实验的技术人员和学生,还可作为大专院校相关专业师生的教材及参考书。

好的,这是一份关于一本名为《真空工艺与实验技术》的图书的详细简介,旨在全面介绍该书涵盖的各个方面,同时避免提及您提供的书名。 --- 《高精密表面工程与先进材料制备技术》图书简介 第一章:引言与基础理论 本书旨在为材料科学、物理学、化学工程及相关领域的科研人员、工程师和高级学生提供一份全面而深入的指南,专注于现代高精密表面工程和先进材料制备的前沿技术。第一章首先为读者构建了坚实的理论基础,详细阐述了薄膜物理、界面科学以及材料在特定环境下的行为规律。 内容涵盖了材料在不同尺度下的结构演变,从原子级排列到宏观性能的关联。我们深入探讨了固态物理学中的晶格缺陷、相变理论,以及薄膜生长过程中的动力学原理。此外,本章也对真空环境在材料处理中的重要性进行了理论上的阐释,解释了为什么在超高纯净度或低压环境下进行操作对于获得具有特定性能的材料至关重要。 第二章:基础真空系统构建与运行 本章是全书实践性的核心,详细介绍了构建和维护高效、稳定的低压或高真空环境所需的关键技术。我们将从基础的真空度概念入手,对不同真空等级(如低真空、中真空、高真空和超高真空)的定义、应用场景及其对实验结果的影响进行细致的区分。 在设备介绍方面,本书系统地梳理了各类真空泵的工作原理,包括机械泵(如旋片泵、爪式泵)、扩散泵、涡轮分子泵以及离子泵和低温泵。重点分析了每种泵的适用范围、性能极限以及维护要求。特别地,本书详尽介绍了真空腔体的设计原则,包括材料选择(如不锈钢、铝合金、陶瓷等)、密封技术(如金属密封与弹性体密封)以及如何有效处理腔体内的“释气”问题,确保系统能够长期维持所需的本底压力。 此外,本章还涵盖了压力测量技术,从皮拉尼规、电离规到冷阴极规,详细分析了它们的工作机理、测量精度范围以及潜在的误差源,为用户精确控制实验环境提供了技术支撑。 第三章:薄膜沉积原理与技术 薄膜作为现代高科技产品(如半导体器件、光学涂层、生物医用材料)的关键组成部分,其制备技术是本书的另一重点。第三章系统地梳理了主流的物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)技术。 在PVD部分,本书深入剖析了热蒸发、电子束蒸发以及磁控溅射(DC/RF/脉冲)的物理过程。对于溅射技术,详细解释了等离子体激发、靶材轰击、原子沉积的机制,并探讨了影响膜层质量的关键参数,如气体种类、功率密度、工作距离和基底偏压。 在CVD方面,本书介绍了热CVD、等离子体增强CVD(PECVD)以及原子层沉积(ALD)的化学反应路径和工艺控制。ALD作为一种实现原子级厚度控制的尖端技术,其自限制性反应机理和在复杂结构器件上的应用潜力被重点论述。 本章的实践性很强,包含了对不同沉积技术优缺点的对比分析,以及如何根据目标薄膜的性能要求(如致密度、晶相、应力)来优化工艺参数。 第四章:材料表面分析与表征 获得高质量的薄膜和材料仅仅是第一步,对其进行准确的表征是理解性能、指导工艺改进的必要环节。本章专注于介绍现代表面和薄膜分析技术。 我们将详尽介绍几种关键的电子束分析技术:扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)在形貌观察、晶体结构分析和微区成分分析中的应用。重点阐述能量色散X射线谱(EDS)和波谱分析(WDS)在元素定性和定量分析中的作用。 此外,本书还覆盖了光谱学分析方法,如X射线光电子能谱(XPS)和俄歇电子能谱(AES),它们是确定材料化学态和表面元素分布的强大工具。对于薄膜的结构分析,X射线衍射(XRD)的原理和数据解析方法被详细讲解,用以确定晶相、晶粒尺寸和残余应力。 第五章:特定材料体系的制备与应用实例 为使理论与实践紧密结合,第五章选取了几种具有代表性的先进材料体系,展示其在特定低压环境下的制备工艺和最终性能。 半导体与介电薄膜: 讨论了硅基薄膜、氮化硅、氧化物薄膜的制备,及其在微电子器件中的应用,包括栅极材料、钝化层和介质层。 硬质与功能涂层: 重点介绍氮化物(如TiN, AlTiN)和碳基材料(如DLC膜)的制备工艺。探讨如何通过控制沉积参数来优化涂层的硬度、摩擦系数和耐磨性,并在模具、切削工具等工业领域中的应用。 光学与能源材料: 涵盖了高反射膜、抗反射膜的堆叠设计原理以及在磁控溅射或蒸发中的实现。此外,也简要介绍了用于电池电极或固态氧化物燃料电池的导电或离子导电薄膜的制备挑战。 第六章:安全、质量控制与前沿展望 本章强调了在进行高能、高真空或化学反应性气体操作时的安全规范和质量保证体系。详细介绍了处理特殊气体的安全操作流程、应急响应措施以及个人防护装备的使用标准。在质量控制方面,本书指导读者如何建立一套完整的工艺验证和批次间一致性评估方法。 最后,本章对该领域未来的发展趋势进行了展望,包括等离子体源的改进、高通量实验的自动化集成、以及在柔性电子和量子技术领域中对超精密材料提出的新要求。 --- 本书内容体系严谨,理论深度与实践指导性兼备,是理解和掌握现代高精密材料制备及表面处理技术的不可多得的参考著作。

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内容比较丰富,但是比较泛。可以放在手边,需要的时候翻一翻。书中有些图示符号不统一。

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