微纳尺度制造工程

微纳尺度制造工程 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

出版者:电子工业
作者:严利人
出品人:
页数:640
译者:
出版时间:2011-5
价格:83.00元
装帧:
isbn号码:9787121134289
丛书系列:
图书标签:
  • 微电子
  • 简体中文
  • 中国
  • 专业书
  • 2011
  • 微纳制造
  • 纳米技术
  • MEMS
  • 微系统
  • 精密工程
  • 制造工程
  • 材料科学
  • 表面工程
  • 生物医学工程
  • 微电子
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具体描述

本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发等。

《微纳尺度制造工程》图书简介 本书聚焦于微纳尺度制造的核心理论、关键技术与前沿应用,为读者构建一个系统、深入的知识框架。在快速发展的科技浪潮中,微纳制造技术正以前所未有的速度渗透到生命科学、材料科学、电子工程、能源科学等众多领域,成为推动科学技术进步和社会发展的强大引擎。本书旨在梳理这一复杂而精密的制造体系,深入解析其背后的科学原理,并展示其在现实世界中的广泛潜力。 核心内容概览: 本书的编排设计遵循从基础理论到实际应用的逻辑顺序,力求为读者提供一个全面而透彻的认识。 第一部分:微纳尺度制造的原理与基础。 这一部分将奠定读者对微纳尺度制造的基本认知。我们将深入探讨宏观世界与微纳世界的物理规律差异,例如表面张力、范德华力、量子效应等在微纳尺度下如何变得尤为显著,并深刻影响制造过程。同时,会介绍微纳尺度下物质的行为特性,包括流体动力学、热传递、光学现象等,为理解后续的制造工艺打下坚实基础。此外,本书还将对微纳制造的尺度效应进行详细阐述,解释为何在微观层面,材料的宏观性质可能会发生根本性改变,以及这些变化如何被巧妙地应用于制造。 第二部分:关键微纳制造技术。 这是本书的核心内容,将详细介绍当前主流和极具潜力的微纳制造技术。 光刻技术: 从紫外光刻(UV Lithography)、深紫外光刻(DUV Lithography)到极紫外光刻(EUV Lithography),本书将逐一解析其原理、工艺流程、分辨率极限以及在半导体制造中的关键作用。同时,会探讨掩模版制作、光刻胶选择与显影等关键环节。 电子束光刻(EBL)与离子束刻蚀(IBE): 详细介绍EBL在高分辨率图形转移中的优势,包括其工作原理、聚焦与扫描系统、分辨率限制,以及如何克服其低效率问题。对于IBE,将阐述其在材料去除、表面形貌控制及器件加工中的应用。 纳米压印技术(NIL): 介绍NIL作为一种高效、低成本的纳米图形复制技术,包括其工作原理、模版制作、压印过程(如热压、紫外固化)以及在光学器件、生物传感器等领域的应用。 三维打印与增材制造: 重点介绍适用于微纳尺度的三维打印技术,如立体光刻(SLA)、数字光处理(DLP)、双光子聚合(TPP)等,分析其在微流控芯片、微机电系统(MEMS)及微型医疗器械制造中的独特优势。 薄膜沉积技术: 涵盖物理气相沉积(PVD,如溅射、蒸发)和化学气相沉积(CVD)等方法,解释其在制备高质量、特定结构薄膜方面的原理与应用。 刻蚀技术: 详细介绍干法刻蚀(如反应离子刻蚀RIE、感应耦合等离子体刻蚀ICP)和湿法刻蚀,分析其选择性、各向异性以及在图形转移中的关键作用。 其他先进技术: 还会涉及如自组装、微纳加工中的精密检测与表征技术等。 第三部分:微纳制造在各领域的应用。 这一部分将展示微纳制造技术如何赋能各行各业,引领技术革新。 半导体与电子器件: 深度解析微纳制造如何支撑集成电路(IC)的摩尔定律发展,包括晶体管、存储器、微处理器等关键组件的制造。 微机电系统(MEMS): 介绍MEMS技术如何将机械结构、传感器、执行器等集成到微小的芯片上,在汽车、消费电子、医疗健康等领域的广泛应用。 生物技术与生命科学: 探讨微纳制造在微流控芯片(用于药物筛选、疾病诊断)、生物传感器、药物递送系统、组织工程支架等方面的革新作用。 光学与光子学: 介绍微纳结构如何在光子晶体、衍射光学元件、微透镜阵列等方面实现对光的精确控制,推动光学通信、显示技术、传感器的发展。 能源科学: 阐述微纳制造在提高太阳能电池效率、开发新型储能器件(如微型电池)、催化剂等方面的贡献。 先进材料: 介绍如何利用微纳制造技术制备新型纳米材料、功能性薄膜、表面改性材料等,赋予材料独特的性能。 第四部分:微纳制造的挑战与未来展望。 在对现有技术和应用进行深入剖析后,本书将着眼于微纳制造领域面临的挑战,并对未来的发展趋势进行展望。 成本与效率: 分析高昂的研发和生产成本,以及如何提高制造效率,实现大规模、低成本的微纳器件生产。 精度与可靠性: 探讨如何进一步提高制造精度,应对日益复杂的微纳结构,以及如何确保器件在极端条件下的可靠性。 新材料与新工艺: 展望下一代微纳制造可能涉及的新材料(如二维材料、智能材料)和新兴工艺。 智能化与自动化: 探讨如何将人工智能、大数据等技术融入微纳制造流程,实现智能化生产和质量控制。 跨学科融合: 强调微纳制造与其他学科(如物理、化学、生物学、材料学、计算机科学)的深度融合,将催生更多颠覆性创新。 本书内容严谨,逻辑清晰,语言精炼,力求深入浅出,适合从事相关领域研究与开发的科研人员、工程技术人员,以及对微纳尺度制造技术感兴趣的在校学生和行业从业者。通过阅读本书,读者将能够系统地掌握微纳尺度制造的理论基础、关键技术及其广阔的应用前景,为未来的创新与发展提供坚实的知识支撑。

作者简介

斯蒂芬A·坎贝尔:明尼苏达大学电子与计算机工程系的教授,该校技术研究院的杰出教授,同时兼任该校纳米制造中心和纳米结构应用中心的主任。无论是在学术界还是在工业界,他在微电子工艺制造领域都有着广泛的经验。他目前的研究领域包括半导体纳米颗粒在高性能电子器件与光电器件中的应用、先进材料、新型传感器与晶体管结构以及MEMS器件的各类应用等。

目录信息

第1篇 综述与题材第1章 微电子制造引论 1.1 微电子工艺:一个简单的实例 1.2 单项工艺与工艺技术 1.3 本课程教程 1.4 小结第2章 半导体衬底 2.1 相图与固溶度° 2.2 结晶学与晶体结构° 2.3 晶体缺陷 2.4 直拉法(Czochralski法)单晶生长 2.5 Bridgman法生长GaAs 2.6 区熔法单晶生长 2.7 晶圆片制备和规格 2.8 小结与未来发展趋势 习题 参考文献 第2篇 单项工艺1:热处理与离子注入第3章 扩散第4章 热氧化第5章 离子注入第6章 快速热处理 第3篇 单项工艺2:图形转移第7章 光学光刻第8章 光刻胶第9章 非光学光刻技术+第10章 真空科学与等离子体第11章 刻蚀 第4篇 单项工艺3:薄膜及概述第12章 物理淀积:蒸发和溅射第13章 化学气相淀积第14章 外延生长 第5篇 工艺集成概述第15章 器件隔离、接触和金属化第16章 CMOS技术第17章 其他类型晶体管的工艺技术第18章 光电子器件工艺技术第19章 微机电系统第20章 集成电路制造附录A 缩写与通用符号附录B 部分半导体材料的性质附录C 物理常数附录D 单位转换因子附录E 误差函数的一些性质附录F F数
· · · · · · (收起)

读后感

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用户评价

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**读者E的评价:** 我发现这本书最大的亮点在于其对“系统思维”的强调。作者清晰地阐述了在微纳尺度下,制造不再是孤立的步骤堆砌,而是一个高度相互依赖的复杂系统。从原材料的准备到最终产品的检测,每一个环节的微小扰动都会被指数级地放大,这一点在书中得到了充分的体现。它非常注重对“过程控制”的探讨,提供了大量关于如何建立反馈回路、如何进行实时监测的实用见解。我特别赞赏其中关于缺陷形成机理的分析,那份深入到原子尺度的剖析,极大地拓宽了我对材料损伤和失效的认知。这本书的引用列表也极具参考价值,它为读者指明了进一步深造的方向,展现了作者广阔的学术视野。总的来说,这本书的风格是稳健而深厚的,它不是为了追求一时的热点,而是致力于构建一个可以经受时间考验的、关于微纳制造的知识基石。对于希望在这一领域建立长期、稳固研究基础的学者而言,这本书提供的框架是无价的。

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**读者C的评价:** 坦率地说,我一开始对这样一本技术专著抱有很高的期望,但读完之后,我不得不承认它远远超出了我的预期。这本书的语言风格是极其精准和简洁的,没有丝毫多余的形容词或模糊的表述,每一个句子都承载着丰富的信息量。它更像是一部精密仪器的操作手册,严谨得让人心生敬畏。我特别欣赏它在介绍新兴制造技术时所展现出的客观和批判性视角,它没有盲目地推崇任何一种“万能技术”,而是清晰地指出了每种方法的局限性和适用边界。在处理复杂的多物理场耦合问题时,作者展现了深厚的功底,使得原本混沌不清的相互作用变得条理分明。这本书对跨学科知识的整合能力令人印象深刻,它巧妙地将材料科学、力学、光学乃至控制理论融为一炉,为读者构建了一个全面的认知体系。对于那些追求极致性能、希望在现有技术瓶颈上寻求突破的科研人员而言,这本书绝对是案头必备的工具书,它的价值会随着时间的推移而愈发凸显。

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**读者B的评价:** 这本书的结构安排堪称一绝,它遵循了一种非常自然的逻辑流,从宏观现象的观察,迅速过渡到微观机制的探究,最终落脚于实际的制造工艺。我发现自己阅读的节奏很容易被它带动,很少出现需要频繁回溯才能理解前文的情况。作者似乎对读者的知识背景做了细致的考量,即便是初次接触这个领域的读者,也能借由书中提供的坚实基础,快速建立起完整的知识框架。我特别喜欢它在讨论特定工艺流程时,所引用的那些经典案例和最新的研究进展。这种融合使得内容既有历史的厚重感,又不失前沿的锐气。书中对工艺窗口的控制、误差分析和良率提升的讨论,简直是工程实践中的“圣经”。它没有止步于“是什么”,而是深入探讨了“为什么会这样”以及“如何才能做得更好”。对于从事高精度制造领域的人来说,这本书提供的不仅仅是技术参考,更是一种解决问题的思维模型。我几乎可以想象,在未来的研发会议上,我还会时不时地拿起它,查阅那些关键性的数据和理论支撑。

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**读者D的评价:** 这本书的阅读体验是极其“沉浸式”的。它成功地营造了一种探索未知的氛围,仿佛带着我们一同进入了那个光怪陆离的微观世界。作者在描述那些精细到纳米级别的操作时,那种细致入微的笔触,让人仿佛能亲手触摸到那些被加工的表面。我特别欣赏书中对各种表征手段的介绍,不仅描述了它们的工作原理,更重要的是,解释了如何通过这些手段来“阅读”制造过程留下的信息。这种由果溯因的分析方法,对于优化工艺参数至关重要。这本书的理论推导部分逻辑严密,步骤清晰,即便是面对复杂的数学模型,作者也总能找到最直观的几何或物理图像来辅助理解,这一点对于我们这些更偏向工程应用的人来说,简直是福音。它不像某些书籍那样,把数学公式当作炫耀的资本,而是将它们视为解决实际问题的有力武器。这本书无疑是为那些渴望掌握制造“主动权”的工程师准备的,它教会你的不仅仅是操作,更是对制造本质的深刻洞察。

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**读者A的评价:** 这本书的叙述风格实在是太令人耳目一新了。它完全没有那种传统教科书的刻板和枯燥,反而像是一位经验丰富的工程师在和你面对面交流,娓娓道来那些深奥的原理和实践中的挑战。作者似乎非常擅长将复杂的概念拆解成易于理解的小块,每一个章节都像是精心设计的迷宫,引导着读者一步步深入。我尤其欣赏它在理论深度和工程实用性之间的平衡。读起来,你不会觉得自己在背诵公式,而是在学习如何“思考”一个制造问题。它对现有技术的梳理非常到位,不是简单地罗列,而是对每种方法的优缺点、适用场景进行了深刻的剖析。特别是那些关于材料行为在微观尺度下如何表现的讨论,真是引人入胜,让我对传统认知有了一种颠覆性的理解。这本书的排版和图示也做得相当出色,很多示意图清晰到仿佛可以直接拿去用在项目报告里。对于那些希望从理论到实践跨越鸿沟的工程师和研究生来说,这本书无疑是一份宝贵的财富。它不只是知识的搬运工,更像是一位思想的启迪者,激发了我在解决实际问题时的更多灵感。

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