单晶结构分析原理与实践

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出版者:科学
作者:陈小明,蔡继文编
出品人:
页数:228
译者:
出版时间:2007-8
价格:28.00元
装帧:平装
isbn号码:9787030192165
丛书系列:
图书标签:
  • 化学
  • XRD
  • 材料学
  • 晶体结构
  • 晶体
  • 物理
  • 波谱解析
  • 无机化学
  • 单晶衍射
  • 结构解析
  • X射线衍射
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  • 材料科学
  • 化学
  • 物理
  • 结构分析
  • 粉末衍射
  • 布拉格定律
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具体描述

本书主要介绍了x射线晶体衍射的基本原理,晶体的培养与衍射数据的收集,晶体结构解析与精修的基本概念、结果的表达,有关的晶体学数据库和软件资源,结构解析的实际例子及常用软件的使用方法等。本书结合作者多年从事晶体结构分析所积累的经验,总结了结构解析过程中常见的问题与解决方法,并提供了最新的有关文献资料。作者对第一版进行了增删、修改,旨在进一步提高理论基础的易读性和实用性,突出与实践密切相关的内容,对面探衍射仪的操作、数据处理等内容做了适当的增加,提供了更多有助于读者解决结构解析和精修过程中容易遇到问题的内容和实例。

本书可以作为涉及晶体结构分析工作的化学工作者,尤其是合成、材料、晶体工程和超分子化学等学科的研究生和科研工作者的教材或参考书。

现代半导体材料科学前沿:从微观形貌到宏观性能的跨尺度理解 本书旨在为材料学、物理学、化学以及电子工程领域的科研人员、高级工程师和研究生提供一个深入且全面的视角,聚焦于如何通过先进的表征技术和理论模型,解析现代半导体材料体系中复杂结构与性能之间的内在联系。我们侧重于那些超越传统晶体学范畴、涉及多相、缺陷以及界面效应的前沿课题。 --- 第一部分:先进表征技术基础与应用扩展 本部分系统梳理了理解现代半导体材料所需依赖的关键实验技术,强调其在处理复杂、非理想结构时的潜力与局限性。 第一章:高分辨率电子显微学在材料界面研究中的深化应用 本章深入探讨了透射电子显微镜(TEM)和扫描透射电子显微镜(STEM)在揭示亚纳米尺度结构时的最新进展。重点不再是完美的周期性结构,而是集中于: 异质结界面失配与应变梯度分析: 详细介绍如何利用高角度环形暗场像(HAADF-STEM)和环形暗场像(ADF)的对比度变化,定量分析薄膜/衬底界面处的原子排列畸变、位错线密度及其应力分布。讨论同步辐射X射线衍射(XRD)与TEM在互补分析中的策略。 缺陷工程与局域化学态成像: 介绍如何结合电子能量损失谱(EELS)的空间分辨能力,对点缺陷(如空位、间隙原子团簇)的电子结构和化学配位环境进行实时成像和分析,特别是针对掺杂杂质在晶格中的偏析行为。 原位(In-situ)电镜技术: 阐述在加热、电场或光照等动态条件下,如何观察材料结构在工作状态下的演变,如相变、氧化或界面迁移,从而理解材料的动态稳定性。 第二章:光谱学方法在能带结构与缺陷态解析中的拓扑视角 本章着重于利用不同波段的光谱技术,来探测材料的电子能级结构和局域激发模式,尤其关注非晶和低维材料。 拉曼光谱与声子散射机制: 深入分析晶格振动模式(声子)的频率、线宽和强度的变化,如何指示晶格的无序度、晶粒尺寸效应和界面耦合强度。探讨声子热输运与结构弛豫的关系。 光致发光(PL)与吸收光谱的深度分析: 超越简单的带隙测量,本章侧重于分析发射峰的形状、斯托克斯位移,以及在不同温度和激发功率下的行为,用以量化深能级缺陷的浓度和俘获截面。 X射线光电子能谱(XPS)和俄歇电子能谱(AES)的表面敏感性: 探讨这些技术如何精确确定材料表面和近表面的元素价态、化学键合环境,以及面对氧化层和钝化层时的去卷积策略。 --- 第二部分:多尺度材料模拟与性能预测 本部分转向理论计算和计算模拟,强调如何构建准确的物理模型来预测和解释实验观察到的宏观性能。 第三章:密度泛函理论(DFT)在复杂合金与界面计算中的局限与突破 本章聚焦于如何使用第一性原理计算来处理具有挑战性的半导体体系,如高熵合金半导体或复杂氧化物。 Hubbard U(GGA+U)和混合泛函的应用: 讨论如何通过修正标准DFT方法来准确描述d/f电子体系中电子关联效应导致的能带结构和磁性,解决半导体/绝缘体过渡的模拟难题。 超胞方法与缺陷热力学: 详细介绍如何构建包含大量点缺陷或位错的超胞模型,计算缺陷形成能、迁移能垒,并结合统计热力学计算缺陷在不同温度下的平衡浓度。 界面势垒计算: 利用DFT计算分析异质结界面处电荷转移、能带对齐(Band Alignment)和界面态的形成,为优化器件性能提供理论指导。 第四章:介观尺度模拟:分子动力学与蒙特卡洛方法 本章关注于描述材料在时间尺度上和空间尺度上演化的过程,如生长、退火和热效应。 半导体材料的分子动力学(MD)模拟: 介绍如何构建准确的嵌入原子势(MEAM, ReaxFF等),模拟晶格弛豫、扩散过程和热扩散行为。重点分析熔化/凝固过程对晶体质量的影响。 蒙特卡洛(MC)方法在相分离与掺杂均匀性中的应用: 讨论MC模拟如何高效预测在热处理过程中,掺杂原子在晶界和表面上的重新分布,以及相分离(如半导体/绝缘体共存体系)的动力学。 耦合模拟策略: 探讨将DFT计算得到的势能面数据映射到MD模拟中,实现跨尺度的精度传递,用于模拟更长时程的热稳定性问题。 --- 第三部分:功能材料的结构-性能耦合案例研究 本部分通过具体的应用案例,整合前两部分的技术和理论,展示如何解决实际材料科学中的关键挑战。 第五章:低维与二维半导体材料的结构非理想性 重点探讨二维材料(如过渡金属硫族化物、黑磷)在制备过程中引入的结构复杂性,以及这些复杂性如何决定其光电性能。 晶界与折叠(Wrinkles)的电荷分离效应: 分析多层膜中由于范德华力导致的堆叠模式差异,以及边缘效应如何影响载流子的寿命和迁移率。 表面终止与环境敏感性: 结合XPS和原位电镜,解析不同化学钝化层对二维材料费米能级调控的机制,以及水汽、氧气吸附导致的性能衰减。 第六章:高效率光伏与热电器件中的热点问题 本章聚焦于需要精确结构控制以实现最优性能的器件材料。 钙钛矿材料的结构弛豫与离子迁移: 深入分析碘离子和有机阳离子在晶格中的快速扩散机制,如何通过计算模拟预测离子迁移路径和激活能,并讨论如何利用固溶(Alloying)策略稳定晶体结构。 半导体热电器件中的“晶格玻璃化”策略: 探讨通过引入大量纳米尺度的晶界、位错或点缺陷,如何有效散射声子(降低热导率 $k$),同时尽量保持电子导电性 $ sigma $ 的设计理念,以及如何利用STEM/TEM来确认这些“声子散射中心”的形态与分布。 --- 本书的独特价值在于其对“非完美结构”的深度聚焦。它不满足于理想晶体的描述,而是将目光投向真实材料中无处不在的缺陷、界面、无序和动态变化,提供一套完整的、从原子尺度到宏观性能的解析框架和工具箱。

作者简介

目录信息

第二版前言
第一版前言
符号说明
第1章 引言
1.1 晶体的特征
1.2 单晶结构分析简史
1.3 晶体结构分析的重要性
1.4 结构分析的过程
参考文献
第2章 衍射几何与结构因子
2.1 X射线与衍射几何
2.2 衍射强度与结构因子
参考文献
第3章 晶体对称性与空间群
3.1 晶格
3.2 十四种布喇菲晶格
3.3 晶体的对称性
3.4 空间群
参考文献
第4章 晶体培养与衍射实验
4.1 单晶的培养
4.2 晶体的挑选与安置
4.3 衍射仪基本结构与X射线的种类
4.4 传统四圆衍射仪与数据收集
4.5 面探测器衍射仪与数据收集
4.6 数据的还原与校正
4.7 吸收校正
4.8 衍射数据质量的检查与评估
4.9 其他衍射方法
参考文献
第5章 晶体结构解析
5.1 结构解析的过程与相角问题
5.2 傅里叶合成
5.3 帕特森方法
5.4 直接法
5.5 结构解析中的若干问题
参考文献
第6章 结构精修
6.1 结构精修与最小二乘法
6.2 权重方案与残差因子
6.3 精修技巧
6.4 结构精修中的若干问题
6.5 结构精修结果的检查
参考文献
第7章 晶体结构的表达
7.1 晶胞参数与分子式
7.2 分子几何
7.3 分子间的作用
7.4 结构图
7.5 结果数据表
7.6 模拟粉末衍射花样
7.7 电子密度
参考文献
第8章 晶体学信息文件、数据库与程序资源
8.1 CIF的定义与产生方法
8.2 CIF格式与检查
8.3 CIF实例
8.4 晶体学数据库
8.5 一些单晶结构分析及绘图程序简介
参考文献
第9章 结构解析的实际例子
9.1 经典配合物与空间群P1
9.2 有机天然产物绝对结构(构型)的确定
9.3 配位聚合物一空间群Cc与C2/c
9.4 外消旋化合物与手性空间群
9.5 含有多个分子的独立单元
9.6 晶体结构与氢键及其表达
9.7 具有孔洞结构的配位聚合物
9.8 非缺面孪晶
9.9 用铜靶光源确定不含重原子的有机物绝对构型
9.10 用铜靶光源收集金属一有机物晶体的衍射数据
9.11 超低温晶体衍射数据的收集
9.12 甜味蛋白的晶体结构
参考文献
第10章 SHELXTL程序与结构解析和精修
10.1 SHELXTL主要子程序简介
10.2 XPREP
10.3 XS
10.4 XP:结构模型的检查和修改
10.5 XL
10.6 XP:画图
10.7 XCIF
参考文献
第11章 无序结构精修实例
11.1 无序结构精修基本原理与方法
11.2 高氯酸根离子
11.3 环戊二烯基
11.4 混合配体的无序
11.5 苯环与烷基链的无序
11.6 DMF分子的两重无序
11.7 金属离子掺杂引起的无序
参考文献
索引
· · · · · · (收起)

读后感

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用户评价

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这本《单晶结构分析原理与实践》简直是材料科学与晶体学研究者的福音!我最近刚接触这个领域,对X射线衍射数据分析的流程和背后的物理图像感到非常困惑。书的结构安排得非常清晰,从最基础的晶体对称性讲起,逐步深入到复杂的空间群确定和原子坐标优化。特别是关于衍射数据质量控制和对称性处理的部分,作者给出了非常详尽的案例和操作步骤,让我这个新手能够很快地建立起对整个分析流程的信心。书中对Symmetry Operations的解释非常到位,结合大量的图示,即便是抽象的群论概念也变得直观易懂。对于如何判断衍射图谱中的异常点和系统误差,书中的论述也极具实践指导意义。读完前几章,我感觉自己终于能理清头绪,不再是盲目地敲击软件命令,而是真正理解了每一步操作背后的科学原理。这本书的理论深度和工程实用性达到了一个极佳的平衡点,对于想扎实掌握单晶衍射技术的科研人员来说,绝对是案头必备的宝典。

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作为一名资深的光谱学研究者,我原本以为晶体结构分析对我来说只是一个辅助工具,但这本书彻底改变了我的看法。它的叙述风格非常严谨,充满了数学美感,尤其是关于傅里叶变换在结构因子计算中的应用那几节,作者的推导过程严密且无懈可击,充分展现了物理图像的深刻性。与其他侧重软件操作手册的书籍不同,它更注重基础理论的构建,让你明白“为什么”要这样做,而不是仅仅告诉你“怎么做”。我特别欣赏书中对结构解析中的挑战性问题,比如高对称性晶体、孪晶问题以及微小结构偏差的精细化处理,所提供的深刻见解。那种层层剥开迷雾、直达本质的阅读体验,让人心悦诚服。对于需要进行高精度结构测定的高级研究人员而言,这本书的理论深度足以支撑他们去攻克更具挑战性的科学难题。

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我是一个刚入门的研究生,手里拿着一些很“不理想”的单晶数据,尝试了几个不同的软件都收效甚微。这本书的出现简直就是一道曙光!最让我感到惊喜的是它在“实践”部分。作者没有回避真实世界中数据的不完美性,而是坦诚地列举了各种常见问题——比如弱衍射、高背景、非理想的吸收校正等,并给出了非常“接地气”的解决方案。我按照书中关于数据预处理和初次解析的步骤来操作,竟然成功地得到了一个初步模型!书中的插图非常清晰,尤其是那些关于衍射球和倒易空间的几何关系图,让我瞬间明白了为什么某些衍射点会消失或变弱。它不像一些教科书那样高高在上,而是像一位经验丰富的导师在手把手地带着你解决实际问题,那种由内而外的自信感是其他任何教材都无法给予的。

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这本书的排版和细节处理体现了出版方的专业水准。纸张质量上乘,印刷清晰,公式推导部分使用了清晰的数学符号,阅读起来毫无压力。我注意到书中对一些关键概念的定义和阐述极其精准,例如对“结构因子”和“电子密度”的区分与联系,被描绘得逻辑分明。更值得一提的是,它在讨论先进技术,比如中子衍射或同步辐射光源下的数据采集与分析时,并没有流于表面,而是深入探讨了这些技术相对于传统X射线源的独特优势与挑战。对于需要撰写高水平学术论文的读者来说,书中引用的经典文献和对方法学历史演变的梳理,能极大地拓宽视野,确保你的研究工作建立在坚实的学术背景之上,而不是空中楼阁。

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这本书的价值远超其定价。我尝试在不同的学科背景下使用它——从简单的无机小分子到复杂的有机金属框架材料。令人称奇的是,它所构建的分析框架具有极强的普适性。它不仅关注静态的晶体结构,还巧妙地引入了温度因子和声子信息对原子振动状态的描述,这对于理解材料的宏观性质至关重要。我特别欣赏作者在讨论“结构解析的局限性”时所展现的批判性思维。他们并没有将单晶结构分析视为一个自动化的过程,而是强调了实验人员的判断力和对晶体学物理的深刻理解是不可替代的。这本书读完后,我不仅学会了如何解析晶体结构,更重要的是,我学会了如何“思考”晶体结构。它是一部理论基石,也是一把解开材料世界奥秘的钥匙。

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书写的不错。。。inorg chem 必备...

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简洁易懂

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