微小世界裏的新天地 pdf epub mobi txt 電子書 下載2025

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《微小世界裏的新天地:神奇的薄膜》內容簡介：在我們生活的世界中，各種各樣形形色色的事物和現象，其中都必定包含著“科學”的成分。在這些成分中，有些是你所熟知的，有些是你未知的，有些是你還一知半解的。麵對未知的世界，好奇的你是不是有很多疑惑、不解和期待呢？“形形色色的科學”趣味科普叢書，把我們身邊方方麵麵的科學知識活靈活現、生動有趣地展示給你，讓你在暢快閱讀中收獲這些鮮活的科學知識！

我們最新式的筆記本電腦和手機在變得越來越小的同時,性能卻得到瞭幾倍幾十倍的提升。正是因為薄膜這種尖端的納米技術，我們的生活中纔有瞭大屏幕超薄液晶電視、超大容量存儲媒介、越來越輕巧功能卻越來越強大的各種電子産品。就讓這本書為你生動地講解一下這項支撐現代高科技社會的基礎技術吧。《微小世界裏的新天地:神奇的薄膜》適閤青少年讀者、科學愛好者以及大眾讀者閱讀。

1934年生於日本愛知縣，1957年靜岡大學工學部電子工學專業畢業，同年加入日本電氣株式會社，1967年被調任至日電Valian(現佳能ANELVA株式會社)，1990年至2010年任東京理科大學教授和返聘教授、日本真空協會個人理事、工學博士。主要著作有《話說真空》、《薄膜製作基礎》、《超微細加工基礎》、《簡明電磁學》、《超微細加工人門》、《簡明薄膜讀本》(日刊工業齣版社)等。

1993年3月獲東京工業大學金屬工學博士學位；1997年10月在日本超高溫材料研究所任新能源産業技術綜閤開發機構研究員；2001年5月任美國加州大學洛杉磯分校材料科學與工程係研究員；2009年9月受聘於大連理工大學，任材料學院教授、能源研究院副院長至今。現從事冶金法提純多晶矽材料、薄膜材料、高溫材料等新能源材料的研究。

1984年畢業於大連理工大學金屬材料專業；1993年赴日本留學；1997年獲東京工業大學金屬工學博士學位，後任日本國立電氣通信大學量子物質工學助教；2004年任東京工業大學材料工學副教授至今。現從事金屬物理、功能材料、結構分析等材料科學的研究。

第1章 幸福生活從美麗與微觀開始 001 展現繽紛色彩的顔料用微小粉末描繪美麗世界 002 002 復製美麗——相片彩色相片與數碼相機 004 003 薄膜技術使機器人不斷進化利用薄膜材料與計算機進行精密製備 006 004 創造五種感官視覺、聽覺、嗅覺、味覺與觸覺的創造 008 005 製造人工智能 010 006 我們身邊的電子産品都在使用薄膜 012 007 利用不分解的壓延技術,可以薄到什麼程度 014 008 製造薄膜與製作精細圖案 016 COLUMN 真空的含義 018第2章 製備薄膜的重要環境條件——真空 009 真空——壓強低於大氣壓的空間狀態 020 010 真空的單位與壓強的單位：帕斯卡(Pa) 022 011 抽齣和吸附——真空泵的分類 024 012 真空的分析和測量真空計 026 013 真空裝置的製造方法 028 COLUMN 質量瞬移 030第3章 薄膜的製備 014 薄膜的形成——先氣化,再固化沉積 032 015 四種氣化源034 016 單層生長與形核長大薄膜的生長① 036 017 薄膜內部缺陷薄膜的生長② 038 018 僅有薄膜還不夠薄膜與基闆的結閤 040 019 目標：單晶薄膜 042 COLUMN 齣身和教育同樣重要044viv第4章 薄膜特有的性質 020 薄膜的密度和厚度會隨時間減小 046 021 薄膜電阻的變化比體材料大 048 022 熱穩定性降低通過時效處理加以剋服 050 COLUMN 薄膜和基闆的連接 052第5章 增強基闆與薄膜結閤的技術 023 製膜的基礎：平整的基闆 054 024 前期處理：使基闆錶麵完全裸露 056 025 前期處理的最後工序：乾燥 058 026 製備附著強度更強的薄膜 060 027 改變氣化源、增加附著強度 062 028 薄膜與基闆的相閤性更為重要 064 029 著陸點：險峻的山地 066 030 得到希望的薄膜組成 068 031 製造用於大麵積集成電路的非晶薄膜 070 032 電遷移斷綫及其解決方法 072 COLUMN 太陽之子——等離子體 074第6章 等離子體在薄膜製備中的重要性 033 等離子體的神奇之處及其應用 076 034 通過放電獲得等離子體 078 035 低氣壓(良好真空)下的磁控放電 080 036 産生薄膜用等離子體的五種方法 082 037 薄膜製備的難題——塵埃 084 COLUMN 望遠鏡和照相機視場變亮的奧秘 086第7章 從古代沿用至今的蒸鍍法 038 蒸發源 088 039 加工等厚膜的方法 090 040 離子鍍的使用 092 041 進一步發揮離子的作用 094 042 防止蒸鍍材料與薄膜間的成分變化激光沉積法 096 043 製作透明導電的薄膜透明導電薄膜的蒸鍍方法 098 COLUMN 活學活用 100第8章 大麵積氣化源、適於批量生産的濺射法 044 濺射率是由離子能量和薄膜材料的種類決定的 102 045 濺射産生的原子遵循餘弦法則且速度非常快 104 046 濺射的主要方式106 047 以低電壓、定壓(高真空)為目標的磁控濺射 108 048 支撐半導體IC高集成度發展的鋁閤金濺射 110 049 利用反應濺射製作高性能電阻膜 112 050 用濺射法製作氧化物高溫超導膜 114 051 低電壓下製造透明導電膜(氧化物)ITO 116 052 薄膜加工的過渡——從平麵成膜到微孔成膜 118 053 利用離子進行超微細孔的填埋 120 054 嚮高真空、無氬氣濺射的過渡 122 COLUMN 神奇的過程——從氣體到薄膜 124第9章 由氣體製作薄膜的氣相沉積法 055 氣體嚮固體的轉變：薄膜的氣相沉積 126 056 很多的CVD方法已被實用化 128 057 CVD法製備IC中至關重要的矽係薄膜 130 058 高清彩色電視用的矽薄膜 132 059 高誘電率薄膜和低誘電率薄膜的製作 134 060 用氣相沉積法製備金屬導體薄膜 136 061 錶麵改性法製備氧化薄膜、氮化薄膜 138 COLUMN 從水(液體)中提取薄膜(固體) 140第10章 在液體中製作鍍膜 062 鍍膜技術的發展 142 063 液相鍍膜和真空薄膜中的核生長 144 064 精密鍍膜在電氣領域的應用 146 COLUMN 用世界上最小的刀進行切削加工148第11章 將薄膜加工成電路、晶體管等的蝕刻技術 065 蝕刻法製備圖樣：在正確的位置加工正確的形狀 150 066 用氣體離子進行蝕刻 152 067 最關鍵的一步——等離子體的製備 154 068 反應氣體是重要的 156 069 決定蝕刻的條件 158 070 利用極細離子束進行故障修理 160 071 利用CMP進行平坦化處理 162 072 無CMP的平坦化技術 164 COLUMN 嚮偉大的夢想前進！ 166第12章 薄膜發展的無限可能性 073 操控原子，製造未來儀器 168 074 薄膜——帶動世界通信網絡發展 170 075 用微動同步器挽救生命 172 076 生物計算機的使用 174參考文獻 177
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