Characterization of Integrated Circuit Packaging Materials (Materials Characterization Series)

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出版者:Momentum Press
作者:Thomas Moore
出品人:
页数:274
译者:
出版时间:2010-03
价格:USD 79.95
装帧:Hardcover
isbn号码:9781606501870
丛书系列:
图书标签:
  • Integrated Circuits
  • Packaging Materials
  • Materials Science
  • Characterization
  • Semiconductors
  • Microelectronics
  • Polymer Materials
  • Failure Analysis
  • Reliability
  • Electronics
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具体描述

《集成电路封装材料的表征》(材料表征系列) 内容简介 本书深入探讨了集成电路封装材料的表征技术与应用,旨在为从事半导体封装、材料科学、可靠性工程以及相关领域的科研人员、工程师和学生提供一本全面、权威的参考手册。集成电路封装是保障芯片性能、可靠性和延长使用寿命的关键环节,而封装材料的精确表征则是优化设计、预测失效、提升制造工艺和确保产品质量的基石。本书将重点聚焦于材料的微观结构、物理化学性质、力学性能以及热学行为等,并详细阐述用于分析这些特性的先进表征手段。 第一部分:集成电路封装材料概述与表征的重要性 本部分将首先对集成电路封装技术的发展历程进行简要回顾,并介绍当前主流的封装形式(如DIP、SOP、QFP、BGA、WLCSP、SiP等),阐述不同封装形式对材料性能提出的不同要求。随后,将重点阐述封装材料在集成电路中的功能,包括: 电气绝缘与信号传输: 封装材料需提供优良的绝缘性能,防止电气短路,同时作为导线连接的载体,确保信号的有效传输。 机械支撑与保护: 封装材料要能有效地保护脆弱的硅芯片免受外界机械应力、振动和冲击的影响,维持器件的结构完整性。 散热与热管理: 随着芯片集成度的提高和功耗的增加,封装材料的导热性能变得至关重要,能够有效地将芯片产生的热量导出,防止过热。 环境防护: 封装材料需要抵御湿气、化学腐蚀、氧化等环境因素的侵蚀,延长器件的使用寿命。 接着,本书将深入分析封装材料表征的必要性与重要性: 材料选择与优化: 通过精确的表征,可以了解不同材料的特性,从而为特定的封装应用选择最合适的材料,或对现有材料进行性能优化。 工艺开发与控制: 表征技术是理解和控制封装过程中材料行为的关键,有助于开发更高效、更稳定的制造工艺。 可靠性评估与失效分析: 材料的性能直接影响到集成电路的可靠性。表征有助于预测材料在长期使用过程中可能出现的退化和失效模式,为可靠性设计提供依据,并在失效发生时进行准确的分析。 新材料研发: 随着半导体技术的不断进步,对新型封装材料的需求日益增长。本书介绍的表征技术将为新型材料的研发和性能评估提供有力的工具。 第二部分:微观结构与形貌表征技术 本部分将详细介绍用于研究集成电路封装材料微观结构和形貌的各种先进技术: 光学显微镜 (Optical Microscopy, OM): 介绍其基本原理、不同类型(明场、暗场、相差、微分干涉等)及其在观察材料宏观形貌、缺陷、界面等方面的应用。 扫描电子显微镜 (Scanning Electron Microscopy, SEM): 详细阐述SEM的工作原理,包括电子枪、扫描系统、探测器(二次电子、背散射电子)等。重点介绍SEM在观察材料表面形貌、微观结构、晶粒尺寸、界面形貌以及通过能谱仪(EDS/EDX)进行的元素成分分析方面的强大能力。 透射电子显微镜 (Transmission Electron Microscopy, TEM): 讲解TEM的工作原理,包括电子束的形成、样品制备(超薄切片、FIB制备)、成像模式(明场、暗场、衍射衬度成像)以及在揭示材料晶体结构、晶界、位错、析出物等原子尺度信息方面的优势。 原子力显微镜 (Atomic Force Microscopy, AFM): 介绍AFM的工作原理,包括探针、扫描模式(接触模式、轻敲模式、无接触模式)及其在测量材料表面形貌、粗糙度、局部力学性质(硬度、弹性模量)以及表面电势等方面的独特应用。 X射线衍射 (X-ray Diffraction, XRD): 阐述XRD的基本原理,包括布拉格定律、晶体结构分析、相鉴定、晶粒尺寸测定、残余应力分析等。重点介绍其在确定封装材料的晶体相、织构以及研究材料相变行为方面的作用。 聚焦离子束 (Focused Ion Beam, FIB): 介绍FIB技术在制备高精度样品(特别是TEM样品)、原位损伤修复、微观结构的三维重构以及局部材料刻蚀方面的应用。 第三部分:物理化学性质表征技术 本部分将聚焦于表征封装材料的物理化学性质,这些性质直接影响材料的介电性能、吸湿性、热稳定性以及与芯片的界面相容性: 差示扫描量热法 (Differential Scanning Calorimetry, DSC): 讲解DSC的工作原理,用于测量材料的相变温度(如玻璃化转变温度Tg、熔点Tm、结晶温度Tc)、相变焓以及材料的固化行为。这对于评估环氧树脂、聚酰亚胺等聚合物基封装材料的热稳定性至关重要。 热重分析 (Thermogravimetric Analysis, TGA): 介绍TGA的工作原理,用于测量材料在加热过程中的质量损失,从而评估材料的热分解温度、挥发物含量以及热氧化稳定性。 热膨胀系数测量 (Thermomechanical Analysis, TMA): 讲解TMA的工作原理,用于测量材料在温度变化过程中的尺寸变化,从而确定材料的热膨胀系数(CTE)。CTE的不匹配是导致封装器件在热循环中产生应力、引发失效的重要因素。 傅里叶变换红外光谱 (Fourier Transform Infrared Spectroscopy, FTIR): 阐述FTIR的基本原理,用于识别材料中的化学官能团,分析材料的化学组成、分子结构以及吸湿、降解等化学变化。 拉曼光谱 (Raman Spectroscopy): 介绍拉曼光谱的工作原理,用于提供材料的振动信息,可以辅助FTIR进行化学成分分析,并且在无损检测、应力分析等方面具有独特的优势。 阻抗谱分析 (Impedance Spectroscopy): 讲解阻抗谱的基本原理,用于研究材料的介电性能、电导率、离子迁移率等电气特性,特别是在评估材料的吸湿敏感性、电解腐蚀行为以及界面电学特性方面。 吸湿性测试 (Moisture Absorption Testing): 介绍不同的吸湿性测试方法(如动态吸湿、静态吸湿)及其在量化封装材料吸水率、研究吸湿动力学以及评估吸湿对材料性能影响方面的应用。 第四部分:力学性能表征技术 封装材料需要承受复杂的应力环境,因此对其力学性能的准确表征是确保器件可靠性的关键。本部分将详细介绍相关的表征技术: 拉伸试验 (Tensile Testing): 介绍万能试验机(UTM)的基本原理,以及如何通过拉伸试验测量材料的拉伸强度、弹性模量、断裂伸长率、泊松比等基本力学参数。 弯曲试验 (Flexural Testing): 阐述三点弯曲和四点弯曲试验,用于测量材料的弯曲强度和弯曲模量,尤其适用于脆性材料。 压缩试验 (Compression Testing): 介绍压缩试验在测量材料的抗压强度和压缩模量方面的应用。 硬度测试 (Hardness Testing): 介绍洛氏硬度、维氏硬度、努氏硬度等常用硬度测试方法,用于评估材料的表面硬度和耐磨性。 冲击试验 (Impact Testing): 讲解夏比(Charpy)和伊佐德(Izod)冲击试验,用于评估材料的韧性,即抵抗断裂的能力。 疲劳试验 (Fatigue Testing): 介绍循环加载试验,用于研究材料在反复应力作用下的寿命和失效行为,这对于模拟器件在长期工作中的热循环应力非常重要。 断裂力学测试 (Fracture Mechanics Testing): 介绍断裂韧性(KIC)等参数的测量方法,用于评估材料抵抗裂纹扩展的能力。 纳米压痕技术 (Nanoindentation): 详细阐述纳米压痕技术,如何在微观尺度上精确测量材料的硬度和弹性模量,以及如何通过加载-卸载曲线分析材料的应变硬化行为。 第五部分:可靠性与失效分析中的表征应用 本部分将重点阐述如何运用前述的表征技术来评估封装材料的可靠性,并对失效进行分析: 加速寿命试验 (Accelerated Life Testing, ALT): 结合高湿高热(HAST)、热循环(Thermal Cycling)、湿热老化(Damp Heat)等加速试验,并利用各种表征手段(如SEM、FTIR、DSC等)在试验前后对材料进行检测,以评估材料在苛刻环境下的退化机理。 界面失效分析: 重点关注封装材料与芯片、基板、引线等界面处的失效模式,如脱层、空洞、腐蚀等。利用SEM、TEM、EDS等技术对失效界面进行详细的微观形貌和成分分析。 热应力与机械应力分析: 结合CTE不匹配、材料的力学性能和热力学行为,分析热应力在封装体内的分布和影响,并利用AFM、纳米压痕等技术研究局部应力。 吸湿与水解失效: 阐述材料吸湿后可能引发的电化学腐蚀、界面强度下降、介电常数改变等问题,并介绍通过FTIR、阻抗谱等技术监测吸湿过程和评估其影响。 晶格缺陷与杂质分析: 探讨晶格缺陷(如位错、空位)和杂质对材料性能的影响,以及如何通过TEM、XRD等技术进行分析。 失效模型与预测: 基于表征结果,构建材料失效模型,预测封装器件的寿命,并为材料改进提供指导。 第六部分:案例研究与未来发展趋势 本部分将通过具体的集成电路封装材料(如环氧塑封料、金属引线框架材料、焊料、底部填充材料等)的表征案例,展示如何综合运用多种表征技术解决实际问题。 最后,本书将对集成电路封装材料表征领域的未来发展趋势进行展望,包括: 高分辨率、多功能联用表征技术: 结合SEM-TEM、AFM-Raman等联用技术,实现更全面的信息获取。 三维表征技术的普及: 如FIB-SEM、X射线断层扫描(XCT)等,提供器件内部结构的完整三维信息。 原位、动态表征技术的发展: 在真实工作条件下(如加热、加载、施加电场)进行材料性能监测。 计算材料学与表征数据的融合: 利用模拟计算预测材料性能,并通过表征数据验证和修正模型。 自动化与智能化表征平台: 提高表征效率和数据分析能力。 面向先进封装(如2.5D/3D封装、高频高速封装)的新材料及其表征方法。 本书将以清晰的逻辑、翔实的理论和丰富的实例,为读者提供一套完整的集成电路封装材料表征知识体系,是相关领域研究和开发的宝贵参考。

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