现代铌钽冶金 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

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页数:693

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出版时间:2009-1

价格:128.00元

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isbn号码:9787502445522

丛书系列:

图书标签:

• 铌钽冶金
• 现代冶金
• 金属材料
• 材料科学
• 冶金工程
• 稀有金属
• 粉末冶金
• 合金材料
• 金属物理
• 材料加工

《硅基半导体材料的制备与性能研究》 简介： 本书聚焦于当今信息技术核心——硅基半导体材料的最新研究进展。随着电子器件集成度的不断提高和性能要求的日益严苛，对硅材料的纯度、晶体缺陷控制、载流子传输特性以及界面工程等方面的研究显得尤为关键。本书深入探讨了从硅单晶的生长技术（如直拉法、区熔法）到硅晶圆的加工工艺（如外延生长、掺杂、刻蚀、光刻）的各个环节，并详细阐述了不同制备方法对硅材料微观结构、光学和电学性能的影响。 内容概述： 第一章：硅晶体的生长与提纯 本章将详细介绍高纯度硅单晶的生长原理与技术。重点剖析了不同生长炉设计、气氛控制、晶体拉速和旋转速率对晶体质量的影响。同时，阐述了多晶硅的提纯过程，包括化学气相沉积（CVD）、浮区熔炼（FZ）等技术，以及如何通过精确控制杂质浓度来满足不同半导体器件的需求。 第二章：硅晶圆的表面处理与外延生长 本章着重讨论硅晶圆的表面特性对其后续器件性能的重要性。详细介绍了清洗工艺、化学机械抛光（CMP）技术，以及如何实现超光滑、低缺陷的晶圆表面。在此基础上，深入研究了硅外延生长技术，包括不同外延源、生长温度和压力对薄膜厚度均匀性、外延层纯度以及与衬底界面的质量控制。 第三章：掺杂技术与载流子注入 本章全面探讨了硅材料的掺杂过程，这是调控半导体导电类型的关键。详细介绍了热扩散、离子注入等主流掺杂方法的原理、工艺参数及其对掺杂均匀性、掺杂深度和掺杂剂激活率的影响。同时，讨论了快速热处理（RTP）等退火技术在优化掺杂效果和修复损伤方面的作用。 第四章：硅的氧化与介质层的形成 本章深入研究了二氧化硅（SiO2）作为硅基器件核心介质层的制备技术。详细阐述了干氧氧化、湿氧氧化、以及原位氧化等不同氧化方式对SiO2膜厚、均匀性、固定电荷和陷阱密度等关键参数的影响。此外，还将探讨低介电常数（low-k）和高介电常数（high-k）材料在硅基器件中的应用及其制备方法。 第五章：光刻技术与图案化 本章详细介绍了硅基半导体器件制造中至关重要的光刻技术。从紫外（UV）、深紫外（DUV）到极紫外（EUV）光刻，阐述了不同光源、光刻胶类型、曝光和显影工艺对器件特征尺寸精度和良率的影响。同时，探讨了掩模版制作、套刻精度等关键环节。 第六章：刻蚀技术与三维结构制造 本章重点研究了干法刻蚀（等离子体刻蚀）和湿法刻蚀技术在硅材料图案化中的应用。详细分析了反应离子刻蚀（RIE）、电感耦合等离子体刻蚀（ICP）等主流干法刻蚀的机理、选择性、各向异性以及对硅材料表面损伤的控制。此外，还将涉及三维晶体管结构（如FinFET、GAAFET）的制造技术。 第七章：硅基器件的电学性能表征 本章介绍了硅基半导体材料在器件制造完成后，如何对其关键电学性能进行精确表征。内容涵盖了霍尔效应测量、四探针法、CV（电容-电压）特性分析、IV（电流-电压）特性分析、以及器件的击穿电压、漏电流、载流子迁移率等参数的测试方法与解释。 第八章：硅基材料的应力与缺陷控制 本章探讨了在硅材料制备和器件制造过程中引入的应力及其对器件性能的影响。分析了不同工艺步骤（如薄膜沉积、刻蚀）产生的应力类型（张力、压应力），以及应力对载流子输运的影响。同时，深入研究了点缺陷、位错等晶体缺陷的形成机理，以及通过退火、钝化等手段进行缺陷控制的技术。 第九章：先进硅基材料与新兴应用 本章展望了硅基材料在未来发展趋势中的作用。将介绍硅锗（SiGe）合金、多晶硅薄膜晶体管（Poly-Si TFT）等先进硅基材料，以及它们在高性能模拟电路、功率器件、柔性电子等领域的应用前景。同时，还将探讨硅基光电子集成、量子计算等前沿技术的发展。 本书的特点： 本书内容详实，涵盖了从基础理论到实际应用的全过程，旨在为从事半导体材料研究、器件设计与制造的工程师、科研人员以及相关专业的学生提供一个全面、深入的学习和参考平台。通过对硅基半导体材料制备过程的细致分析和对性能表征的深入解读，本书将帮助读者深刻理解硅材料在现代电子工业中的核心地位，并为推动下一代高性能、高集成度电子器件的发展提供理论支持与技术指导。

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读了前几章，感觉作者在叙述问题时非常严谨，每一个定义和公式的推导都循规蹈矩，逻辑链条非常完整。这对于需要精确掌握每一个技术细节的研究人员来说无疑是极大的福音。然而，对于我这种更偏向应用层面的读者，我发现书中对于一些关键的工艺流程，比如熔炼过程中的气氛控制、分离提纯技术的最新进展，描述得略显保守和概括。我更希望看到一些近几年国际上突破性的研究成果的详细分析，哪怕是实验数据的小小波动，都可能蕴含着巨大的技术信息。书中引用的参考文献大多是经典的、早期的文献，虽然基础扎实，但缺乏那种“站在时代前沿”的锐气。如果能增加对当前主流冶金方法中存在的瓶颈问题的深刻剖析，并给出一些大胆的设想和解决思路，这本书的价值将会大大提升，会显得更加‘鲜活’，而不是仅仅是一部知识的复述。

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这本书的章节划分似乎更侧重于金属的物理化学性质和热力学基础，这部分内容无疑是构建整个冶金体系的基石。作者对相图的解读非常到位，对不同温度和压力条件下铌钽合金体系的微观结构演变描述得细致入微。但我注意到，在涉及实际生产操作层面的内容时，叙述的笔墨明显减少了。例如，在讨论粉末冶金技术时，对于粉末粒度分布、烧结致密度控制的工艺窗口探讨得不够深入。这让我感到有些遗憾，因为冶金工程的魅力很大一部分就在于如何将理想的理论模型转化为可控的、高良率的工业实践。我总感觉像是读了一本非常优秀的理论教材，但缺少了一份详尽的“工程师手册”的感觉。如果作者能加入更多基于现场经验的“窍门”和“陷阱”提醒，这本书的实用价值会更高，能帮初入行的人少走不少弯路。

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坦率地说，这本书的内容深度是毋庸置疑的，它提供了一个非常全面且系统的知识框架，尤其是在高纯度金属制备的化学分离阶段，作者的论述达到了一个很高的水准。但是，我发现书中对铌和钽这两种金属在“极端条件”下的行为讨论相对不足。例如，在超高温熔体处理、或者在强腐蚀性环境下的材料兼容性问题，这在尖端科技领域是越来越重要的议题。这本书似乎更聚焦于传统的、成熟的冶炼路径，对于那些充满挑战性的“前沿边界”问题着墨不多。这使得整本书读起来像是一部关于“经典”的权威著作，但缺乏一些对未来技术方向的预见性和探索性。期待未来能看到作者对这些尚未完全攻克的难题进行更深入、更具前瞻性的研判和讨论，让这部作品不仅是知识的总结，更是思想的火花。

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这本书的装帧设计倒是挺有现代感的，封面设计简洁大气，用色沉稳，让人感觉这应该是一本内容扎实的专业书籍。内页的纸张质感也很好，印刷清晰，排版合理，阅读起来比较舒适。不过，初翻目录的时候，我心里还是有点打鼓的。毕竟“铌钽冶金”这个主题本身就带着一股高冷的学术气息，担心内容会过于艰涩难懂，充满了各种复杂的化学方程式和晦涩的专业术语。我期待的是一种能将复杂原理用生动方式阐释出来的叙述方式，而不是那种干巴巴的教科书式罗列。我希望作者能在介绍基础理论的同时，也能穿插一些实际的工业应用案例，比如这些金属在航空航天、高端电子设备中的具体应用场景，这样能更好地激发我的学习兴趣，让我明白这些知识的实际价值。总的来说，从第一印象来看，这本书在物理呈现上是令人满意的，现在就看内在的知识密度和逻辑结构是否能达到我的期望了。

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这本书的语言风格非常古典和学术化，用词精准但读起来略显拗口。很多句子结构复杂，充满了从句和专业术语的嵌套，使得非专业人士需要反复阅读才能准确领会其深层含义。这无疑保证了内容的准确性，但牺牲了一定的可读性。我个人更偏爱那种能够用直白、简洁的语言去解释复杂概念的写作手法。比如，对于一些复杂的反应机理，如果能配以生动的流程图或者类比说明，效果可能会好很多。另外，全书的插图数量相对偏少，很多关键的微观形貌、设备结构图都是缺席的，这对于一个需要直观理解的学科来说是个不小的遗憾。希望未来的版本能加强图文并茂的表达方式，降低读者的理解门槛，让更多有志于此领域的人能够轻松入门，而不是望而却步。

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