纺织印染实用加工技术

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出版者:7-122
作者:陈一飞 编
出品人:
页数:233
译者:
出版时间:2008-1
价格:25.00元
装帧:
isbn号码:9787122017673
丛书系列:
图书标签:
  • 纺织印染
  • 印染技术
  • 实用技术
  • 加工技术
  • 纺织工程
  • 染整
  • 服装制造
  • 纺织化学
  • 行业应用
  • 技术手册
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具体描述

《纺织印染实用加工技术》主要讲述了纤维与纺织品的染色、印花、整理以及助剂,对纺织服装及其流行趋势、纺织品清洁生产也进行了叙述。重点介绍了超细涤纶纤维仿真丝绸面料和真丝绸的印花加工工艺。具有较强的实践性。

《纺织印染实用加工技术》可作为现代纺织印染企业中相关专业技术人员和大、中专相关专业的学生参考。

好的,这里为您提供一个不包含《纺织印染实用加工技术》内容的图书简介,重点突出其他不同领域的专业技术,力求详实、自然: --- 智能制造时代的精密光学与光电系统设计 本书聚焦于现代光电技术在高端装备制造、医疗诊断及先进信息获取中的前沿应用与系统集成,全面解析从基础光学原理到复杂光机电耦合系统的设计、优化与实现流程。 在信息技术与工业制造深度融合的今天,精密光学已成为衡量一个国家高端制造业水平的关键指标之一。本书并非传统的工程技术手册,而是为光电工程师、系统架构师及研究生提供的一部兼具理论深度与工程实践指导的前沿参考书。它旨在跨越纯粹的物理光学理论与零散的工程应用之间鸿沟,构建一套系统的、面向应用的光电系统工程化设计框架。 第一部分:高精度光学系统的理论基础与前沿发展 本部分深入探讨了支撑现代光电系统性能的关键物理学原理,并引入了最新的计算光学和自适应光学概念。 1. 波动光学与几何光学的高级集成: 详细阐述了基于惠更斯-菲涅耳原理的衍射理论在微纳光学结构设计中的应用,特别是对比了传统几何光学在处理高数值孔径(NA)系统时的局限性。引入了傍轴近似的修正模型,用于处理复杂非球面镜面的优化设计。 2. 像差理论的深度解析与修正技术: 不仅涵盖了帕瑞亚耳(Paraxial)的五种基本像差(球差、彗差、像散、场曲、畸变),更重点剖析了高阶像差,如高阶球差与像散的相互耦合效应。详细介绍了利用Zernike多项式对系统进行像差校正的数值方法,并结合MTF(调制传递函数)分析,指导工程师如何量化和优化成像质量。 3. 新型光学元件与材料科学: 专题研究了超表面(Metasurfaces)在光束整形和偏振控制中的突破性应用。对比了传统菲涅耳透镜与基于亚波长结构的光学元件在集成化、轻量化方面的优势。讨论了极端环境(如深紫外或中红外波段)对光学镀膜材料的耐受性及膜系设计原则。 第二部分:光电系统集成与机电耦合设计 系统集成是光电产品成功的关键。《精密光学与光电系统设计》将光学、机械、电子三大学科的交叉融合视为核心挑战。 1. 光机结构的热力学稳定性分析: 针对高精度对准要求(如激光干涉测量或天文望远镜),本书提供了热流分析(Thermal Budgeting)的完整流程。如何精确计算系统内部热源(如激光器、探测器散热)对光学元件的形变影响,并设计出具有低热膨胀系数的支撑结构(如Invar合金或碳纤维增强复合材料)。重点介绍了在轨热补偿算法的初步设计思路。 2. 振动隔离与主动控制: 详细讲解了针对不同频率的外部干扰(如地面交通、风载、设备自身震动),如何选择合适的被动隔振器(如空气弹簧或磁悬浮系统)。更进一步,本书引入了基于PID或LQR控制算法的主动光学(AO)系统,用于实时补偿微小的机械漂移和大气扰动,实现皮米级甚至亚纳米级的位移控制。 3. 探测器与信号调理电路的匹配: 探讨了CMOS、CCD、InGaAs等不同类型光电探测器的物理特性(量子效率、噪声等效功率NEP、动态范围)与上游光学系统的匹配性。重点解析了焦平面阵列(FPA)的非均匀性校正(NUC)技术,以及如何设计低噪声、高线性度的前置放大电路,以最大限度地提取探测器信号。 第三部分:前沿应用案例与系统优化实践 本部分结合实际工业需求,展示了如何将前述理论应用于解决具体的工程难题。 1. 工业机器视觉中的三维重建技术: 深入剖析了基于结构光(Structured Light)和激光雷达(LiDAR)的非接触式测量技术。重点对比了相移法与飞行时间(ToF)法的精度、速度和环境鲁棒性。提供了如何通过优化投射光斑形状和接收端光学设计来提高复杂表面(如高反光或低吸收率材料)的三维重建精度。 2. 高功率激光系统的光束质量控制: 针对工业切割、焊接等领域应用的高功率激光,本书讨论了热透镜效应导致的束腰漂移与光斑畸变。提供了自适应激光整形系统的设计思路,包括如何利用烧蚀光斑形成技术和德克-杨-加斯(Decker-Yang-Gas)模型来预测和控制高斯光束在非线性介质中的传输特性。 3. 极紫外光刻(EUV)系统的初步考量: 虽然EUV技术极其复杂,但本书从系统集成角度概述了其关键挑战,特别是多层反射镜(Mo/Si Multilayer Mirror)的设计原理与容差分析,以及在高真空环境下对密封与运动部件的特殊要求。 本书特色: 理论与实践并重: 每一个关键公式推导后,均附有至少一个可供参考的工程案例或仿真分析示例。 工具链整合: 提供了将光学设计软件(如ZEMAX、Code V)的输出结果与机械仿真软件(如ANSYS)进行耦合分析的流程指导。 面向未来: 强调了人工智能(AI)在光学系统优化,特别是像差诊断与快速迭代设计中的潜力。 本书适合于从事精密仪器、半导体设备、航空航天光学遥感以及高端医疗影像设备研发的工程师、技术人员,以及相关专业的高年级本科生和研究生作为核心参考资料。它将引导读者从“会用元件”升级到“系统化设计”的工程师思维。 ---

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