电工技术

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出版者:机械工业出版社
作者:刘永波
出品人:
页数:164
译者:
出版时间:2006-9
价格:17.00元
装帧:
isbn号码:9787111196488
丛书系列:
图书标签:
  • 电工技术
  • 电路分析
  • 电力系统
  • 电气设备
  • 电工基础
  • 电子技术
  • 自动化
  • 高电压
  • 低压电工
  • 电气工程
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具体描述

本书是根据高职高专院校建筑工程、冶金、测量等非电类专业教学要求和实际需要编写的。结合工程实际所需的电工技术基础知识和基本技能,从电路分析基础、电动机原理、继电-接触器控制技术、安全用电等四方面进行讲授,内容精练,以必需够用为度,强调结论以及结论在实际中的应用,删减了大量的公式推导理论论证内容。

本书主要内容包括:电路基础知识、电路的分析方法、正弦交流电路、三相交流电路、电路的暂态分析、磁路和变压器、电动机、继电-接触器控制、工厂供电与安全用电、电工测量等。为方便学生理解,本书设计了与教学内容结合紧密的例题、思考题和习题,并在书末附了部分习题答案和电工技术常用中英名词对照等。

本书简明扼要,但却涵盖了非电类专业对电工技术课程要求的全部内容。因此它即既可作为高职高专院校及应用型本科院校的教材,也可作为从事相关专业的工程技术人员的参考用书。

好的,这是一本名为《现代光学工程基础》的图书简介,内容详尽,力求自然流畅: --- 现代光学工程基础 内容简介 《现代光学工程基础》是一本系统阐述当代光学工程领域核心理论、关键技术与前沿应用的专业教材与参考手册。本书旨在为高等院校光电信息、精密仪器、物理学、电子工程等相关专业的高年级本科生、研究生提供扎实的理论基础,同时也为从事光学系统设计、光电器件制造、光学检测与计量等工作的工程技术人员提供一本兼具深度与广度的实用工具书。 本书内容组织严谨,逻辑清晰,从基础的光的波动性与几何光学描述出发,逐步深入到更为复杂的物理光学、衍射理论、激光原理,最终聚焦于现代光学工程中的核心议题——光学系统的成像质量评价、先进光学元件的制造与检测技术,以及当前极具发展潜力的非成像光学和超表面光学。 --- 第一篇:光的基础理论与描述(The Fundamentals of Light and Its Description) 本篇是全书的基石,旨在构建读者对光现象的完整物理认知,并掌握描述光线和光波行为的数学工具。 第一章:电磁波理论与光的本性 本章首先回顾麦克斯韦方程组在介质中的应用,重点阐述光作为电磁波的本质。详细讨论光的传播特性,包括波的矢量特性、坡印廷矢量(能量流密度)以及光在不同介质界面上的反射与折射规律,特别是斯涅耳定律的矢量形式推导。引入光的偏振态概念,从线性、圆周到椭圆偏振的数学描述,以及琼斯矩阵和穆勒矩阵在描述光学元件对偏振态影响中的应用。 第二章:几何光学基础 虽然现代光学偏向波动理论,但几何光学作为工程近似仍然是系统初步设计的核心工具。本章详细分析了光线近似下的成像原理,包括点光源通过球面和非球面透镜的成像过程。深入探讨了基于光线追迹的系统设计方法,重点讲解了斯图尔特图(Stewart Diagram)和光线束的传输矩阵(ABCD 矩阵)方法,这为复杂多镜系统或光纤传输系统的初步分析提供了高效的代数工具。同时,对放大率、数值孔径(NA)和视场角等关键参数进行了详尽的定义和相互关系阐述。 第三章:波动光学与干涉 波动光学是理解衍射和成像质量的先决条件。本章从惠更斯-菲涅尔原理出发,系统介绍了光的干涉现象。深入讲解了不同类型的干涉,包括杨氏双缝干涉、薄膜干涉(如牛顿环、等厚干涉),并着重分析了如何利用干涉原理实现高精度的计量和测量。此外,本章对傅里叶光学的基础进行了铺垫,强调了光场传播过程的线性叠加特性。 --- 第二篇:衍射、成像与系统评价(Diffraction, Imaging, and System Evaluation) 本篇将理论与实际光学系统性能联系起来,是光学设计工程师必须掌握的核心内容。 第四章:衍射理论与分辨率 详细探讨光的衍射现象,从夫琅禾费衍射(远场)到菲涅耳衍射(近场)。重点分析单缝、圆孔和阵列孔径的衍射图样,特别是光阑衍射对成像质量的根本限制。引入艾里斑概念,并推导瑞利判据和阿贝衍射极限,明确了光学系统的根本分辨率边界。对光栅作为色散元件的原理和应用进行了深入的探讨。 第五章:傅里叶光学与空间滤波 本章将波动光学与傅里叶变换理论完美结合。阐述了光学系统作为线性空间不变系统(LTI)的本质,即出瞳光场是入瞳光场的傅里叶变换。详细讨论了系统函数、传输函数(OTF)和调制传递函数(MTF)的概念及其在评估成像清晰度中的关键作用。随后,深入讲解了光学系统中的空间滤波技术,包括对图像进行增强、边缘提取和噪声抑制等应用。 第六章:光学系统的像差理论 这是评估和校正成像系统性能的关键章节。系统地分析了轴上和轴外的几何像差,包括球差、彗差、像散、场曲和畸变(五大一次像差)。对这些像差的物理成因、数学表达(如塞德尔(Seidel)像差系数)及其对图像的影响进行了细致的剖析。在此基础上,引入了波像差函数(Wavefront Aberration Function)的概念,以及如何利用Zernike多项式来高效地描述和量化像差。 --- 第三篇:激光与非线性光学(Lasers and Nonlinear Optics) 本篇专注于现代光学工程中最具活力的部分——受激辐射与光的非线性相互作用。 第七章:激光原理与器件 系统介绍受激辐射的基本概念,包括爱因斯坦的自发辐射和受激辐射系数关系。详细阐述了激光器的基本结构(增益介质、谐振腔、泵浦源)和工作原理。重点分析了激光腔的稳定性判据(ABCD矩阵法在腔稳定区分析中的应用)。对比了不同类型的激光器(如固体激光器、半导体激光器、气体激光器)的特性和应用领域。 第八章:激光的特性与应用 聚焦于激光束的特殊性质,如极好的单色性、方向性和相干性。深入分析了高斯光束的传输特性和衍射规律,并将其与传统光源进行对比。本章还介绍了激光在光学信息处理、精密测量(如激光测距、干涉测量)以及材料加工中的典型应用案例。 第九章:非线性光学导论 介绍了光与物质相互作用的非线性效应。从宏观极化率张量的角度推导了二阶非线性效应(如二次谐波产生 SHG、参量下转换 OPA)和三阶非线性效应(如自相位调制 SPM)。详细讨论了相位匹配(Phase Matching)的概念,这是实现有效非线性频率转换的关键物理条件。 --- 第四篇:现代光学元件与制造技术(Modern Optical Elements and Fabrication) 本篇面向工程实践,介绍了当前光学系统设计中不可或缺的先进元件及其制造工艺。 第十章:薄膜光学与镀膜技术 分析了介质多层膜的原理,包括反射膜、增透膜和分束膜的设计理论。深入探讨了薄膜的矩阵法分析,用于计算特定波长和入射角下的反射率和透射率。简要介绍了PVD、PECVD等主流的真空镀膜工艺及其对薄膜性能的影响。 第十一章:微纳光学与衍射元件 本章聚焦于尺寸与光波长相当或更小的光学结构。详细介绍衍射光学元件(DOE)的设计原理,特别是基于菲涅耳波带片和全息光栅的设计方法。随后,引入亚波长结构和超表面(Metasurfaces)的概念,阐述如何通过精确设计亚波长单元结构来操控光的振幅、相位和偏振态,以实现传统元件难以企及的功能。 第十二章:光学系统设计与公差分析 本章是理论与实践的桥梁。首先介绍了现代光学设计软件(如Zemax, Code V)的基本工作流程和优化目标函数的建立。重点讲解了系统公差分析(Tolerance Analysis)的重要性,如何量化制造误差对系统性能(如MTF、RMS波前误差)的影响,并指导工程设计中可行性与成本的权衡。 --- 总结与展望 《现代光学工程基础》力求覆盖从经典理论到尖端技术的主流知识体系。通过严谨的数学推导和丰富的工程实例,帮助读者建立起坚实的理论框架,并具备分析、设计和评估复杂光学系统的能力,为未来在光电子、集成光学、量子光学等前沿领域的发展奠定坚实的基础。本书的深度和广度,使其成为光电领域从业者案头常备的经典参考书。

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