数字电子技术及其应用

数字电子技术及其应用 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

出版者:国防工业出版社
作者:韩伟
出品人:
页数:234
译者:
出版时间:2005-9
价格:25.00元
装帧:简裝本
isbn号码:9787118041064
丛书系列:
图书标签:
  • 数字电子技术
  • 电子技术
  • 数字电路
  • 模拟电路
  • 电子工程
  • 电路分析
  • 半导体
  • 嵌入式系统
  • 计算机硬件
  • 应用电子学
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具体描述

本书共分9章,主要内容有:数字电路的基本知识,数制和数制的转换;逻辑电路的结构和运算;组合逻辑电路的设计方法;时序逻辑电路的结构和设计;各种触发器的结构和用途;存储器和可编程pld逻辑电路;数模d/a和模数a/d的转换电路。

  本书吸取了众多教材和读物的优点,聚之精华、侧于重点、条理清晰、文字简明通畅、简学易懂。本书适合作为电类专业在校学生的教学教材和对数字电子技术爱好的非电类专业学生学习和选修用的教材,也可作为考研究生的学生复习考试之用的参考书,以及工程技术人员的专业书籍。

好的,以下是一本名为《现代集成电路设计与制造工艺》的图书的详细简介,该书内容与《数字电子技术及其应用》无关: --- 现代集成电路设计与制造工艺 本书导言: 在信息时代的浪潮中,集成电路(IC)作为现代电子系统的“心脏”,其设计水平和制造能力直接决定着信息技术产业的竞争力。从智能手机的移动处理器到超级计算机的复杂芯片,再到物联网设备的低功耗传感器,无不依赖于先进的集成电路技术。然而,实现这些功能强大的芯片,需要深入理解从前沿器件物理到复杂系统级集成(SoC)的完整流程。 《现代集成电路设计与制造工艺》正是为满足这一行业需求而精心编写的。本书旨在为电子工程、微电子学、材料科学等相关专业的本科高年级学生、研究生以及初入IC设计与制造领域的工程师提供一本全面、深入且具有实践指导意义的参考手册。本书突破了传统教科书中对单一设计或制造环节的局限,将前沿的电路设计方法学与尖端的半导体制造工艺紧密结合,构建起一座连接理论与实践的桥梁。 第一部分:先进集成电路设计方法学 本部分聚焦于现代IC设计中日益复杂化的挑战,特别是面对摩尔定律放缓背景下的设计创新。 第一章:超大规模集成电路(VLSI)基础与设计流程回顾 本章将快速回顾CMOS器件的工作原理和基本逻辑门的设计,但重点将转向现代的物理设计流程,包括前端设计(RTL、逻辑综合)到后端设计(布局规划、时序分析)的完整流片(Tape-out)路径。强调设计约束(Design Constraints)在整个流程中的核心作用。 第二章:低功耗IC设计技术 随着移动设备和边缘计算的兴起,功耗已成为衡量芯片性能的关键指标。本章将详细探讨各种低功耗设计策略: 电源管理技术: 电压与频率调节(DVFS)、时钟门控(Clock Gating)和电源门控(Power Gating)的精确应用。 电路级优化: 亚阈值偏置(Subthreshold biasing)和多阈值CMOS(Multi-Vt CMOS)技术的引入与权衡分析。 软件与硬件协同功耗优化: 探讨系统级软件调度如何影响硬件功耗实现。 第三章:高性能与高频电路设计 针对高速通信和高性能计算的需求,本章深入研究了限制信号完整性的关键因素: 互连延迟与串扰分析: 采用先进的RC延迟模型和耦合噪声分析技术。 时钟网络设计: 深入探讨时钟树综合(CTS)的优化,包括延迟最小化、时钟抖动(Jitter)的控制和电源噪声的抑制。 RF/模拟前端设计基础: 介绍PLL(锁相环)的设计原理,特别是对相位噪声和环路滤波器的精细调控。 第四章:设计验证与形式化方法 现代芯片的复杂性使得传统的仿真验证变得耗时且不完备。本章重点介绍更高效的验证范式: 系统级验证与UVM方法学: 介绍基于SystemVerilog的验证平台构建,强调覆盖率驱动的验证策略。 形式化验证: 探讨如何使用等价性检查(Equivalence Checking)和属性规范验证(Model Checking)来确保设计满足规范的数学严谨性。 第二部分:先进半导体制造工艺与器件物理 本部分将读者带入晶圆厂(Fab)内部,探索如何将设计蓝图转化为实际的物理器件,侧重于纳米尺度下的物理效应和制造挑战。 第五章:晶体管尺寸缩小带来的挑战与先进器件 本章将详细阐述从传统平面CMOS向下一代晶体管结构演进的必要性: 短沟道效应分析: 深入探讨DIBL(漏致势垒降低)和阈值电压滚降(Vth roll-off)等问题。 鳍式场效应晶体管(FinFET): 剖析FinFET结构如何实现更好的静电控制,并讨论其在良率和设计流程中的影响。 面向未来的器件: 简要介绍平面化CMOS(FD-SOI)和Gate-All-Around(GAA)晶体管的基本概念。 第六章:光刻技术:图形转移的核心 光刻是决定芯片特征尺寸和密度的核心工艺。 深紫外光刻(DUV)与极紫外光刻(EUV): 比较两种技术在分辨率、套刻精度和掩模制作上的差异。 分辨率增强技术(RET): 详细讲解OPC(光学邻近效应校正)、相移掩模(PSM)等技术在应对衍射极限方面的应用。 第七章:薄膜沉积与刻蚀工艺 这些工艺决定了芯片的三维结构和材料特性。 薄膜沉积: 区分物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD),重点分析原子层沉积(ALD)在栅介质和高K材料堆叠中的应用。 刻蚀技术: 深入探讨干法刻蚀(反应离子刻蚀, RIE)的各向异性控制,以及如何管理侧壁形貌和深宽比(Aspect Ratio)问题。 第八章:先进封装与异构集成 随着芯片尺寸的限制,系统级封装(SiP)和异构集成成为提升性能的新途径。 2.5D与3D集成技术: 介绍硅通孔(TSV)的制造、布线和热管理挑战。 Chiplet架构: 探讨如何通过高带宽互连技术(如UCIe标准)将不同功能模块在封装层面进行集成,以克服单一硅片面积的限制。 结语: 《现代集成电路设计与制造工艺》不仅是一本知识的汇编,更是一份连接设计理念与物理现实的指南。通过对设计方法、验证策略以及纳米级制造工艺的系统性阐述,本书旨在培养读者具备跨越设计与制造鸿沟的综合能力,以应对未来集成电路技术持续演进的挑战。 ---

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读后感

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用户评价

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我尝试着去理解作者在阐述某些核心概念时的逻辑推导过程,特别是在讨论组合逻辑和时序逻辑电路设计范例时,感触颇深。作者似乎非常注重“为什么是这样”的严谨性,每一步公式的变换或者电路图的演变,都有详细的文字说明,力求让读者理解其背后的数学原理。然而,这种事无巨细的描述,在实操层面上却显得有些啰嗦。例如,在讲解D触发器和JK触发器的特性转换时,用了大段的文字去描述那些通过真值表就能一目了然的关系,这对于追求效率的工程师来说,无疑是一种时间上的消耗。更让我感到困惑的是,书中对于实际应用案例的选取,似乎总是停留在教科书式的标准模型,比如红绿灯控制器、简单的编码器/译码器,这些固然是基础,但如果能加入一些现代工业控制或嵌入式系统中的实际“痛点”案例,比如如何优化功耗、如何处理异步信号的毛刺问题等,那么这本书的实用价值会大大提升。这本书的理论框架很稳固,但缺乏那种“活的”、能与当下技术发展接轨的实践血液。

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这本书的配套资源,或者说它在知识更新迭代方面的体现,让我感到有些许落后。我注意到书中引用的部分标准和芯片系列,似乎是上一个十年的主流型号,而对于近五年来新兴的低功耗CMOS技术、异步逻辑设计的新进展,或是对新型存储器接口的讲解,几乎是空白。在数字技术领域,知识的半衰期非常短,一本优秀的参考书理应包含对最新技术趋势的洞察。例如,关于存储器组织结构的部分,对SRAM和DRAM的介绍是全面的,但缺乏对新型非易失性存储器(如MRAM或RRAM)在数字系统设计中潜力的探讨。这使得这本书的知识体系显得有些“静态化”,更像是一份历史快照,而不是一个不断成长的知识库。对于一个希望跟上行业步伐的读者而言,这意味着我必须花费大量额外的时间去搜索和整合最新的技术文档来更新和校准书中的知识点,这无疑增加了学习的负担和知识的实时性风险。

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这本书的装帧设计倒是挺有意思的,封面采用了深蓝色的主色调,配上一些抽象的电路图纹理,看起来既专业又不失现代感。拿到手上感觉分量挺足的,纸张的质感也相当不错,印刷清晰,字迹锐利,这对于需要经常查阅和做笔记的读者来说是个加分项。不过,说实话,我刚翻开目录的时候,心里咯噔了一下,内容划分似乎有些过于细碎和传统,不知道是不是因为作者的年代感或者专业习惯使然。比如,关于逻辑门和布尔代数那几章,讲解的深度和广度感觉还停留在比较基础的层面,对于那种已经有一定电路基础,想深入探究更前沿数字系统设计,比如FPGA或者更复杂的微处理器架构的读者来说,可能需要额外寻找更进阶的资料来补充。书本的排版上,公式的显示还算规范,但图表的质量参差不齐,有些涉及到时序图的示意图,线条的粗细和标注的清晰度在A4纸打印出来后,感觉有点模糊,这在快速理解复杂逻辑关系时,确实会稍微拖慢阅读速度。整体而言,这本书的物理呈现给我一种“扎实但略显保守”的印象,更像是为初学者打地基准备的教材,而不是一本能引领潮流的参考书。

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作为一本侧重于“应用”的技术书籍,我发现它在软件辅助设计和仿真工具方面的着墨实在是太少了,几乎可以忽略不计。在数字电子技术飞速发展的今天,我们不可能脱离EDA工具链来谈论实际的电路设计和验证。这本书似乎固执地坚守着“手绘原理图和真值表”的黄金时代,对于如何使用诸如Logisim、Quartus Prime或者Vivado这类主流工具进行快速建模、仿真验证以及波形分析,完全没有提及。这意味着,即便是读者完全掌握了书中的所有理论知识,他仍然无法直接将这些知识转化为可以在现代PCB设计流程中使用的实际技能。这种理论与实践工具的脱节,极大地削弱了其作为“应用”指南的价值。我期待看到的是,在讲解完一个复杂逻辑块的实现后,能紧接着给出使用某一主流软件进行验证的截图和简要步骤说明,那样才能真正架起理论到工程实践的桥梁。这本书的内容,更像是一个完善的数学模型,但却缺乏将其“工程化”的指南。

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这本书的语言风格简直是一次对传统工科教科书的完美复刻,非常古典、非常书面化,几乎找不到任何口语化的表达或者轻松的过渡。每一次概念的引入,都伴随着一套完整的、带有特定术语体系的定义和解释,这对于母语非中文或者初次接触该领域的读者来说,无疑是一道高耸的语言门槛。我感觉自己不是在“阅读”一本技术书籍,而是在“破译”一份官方技术文档。举个例子,当涉及到时序逻辑的状态转移分析时,作者用了一种非常晦涩的句式来描述不同状态间的依赖关系,我不得不反复阅读好几遍,甚至需要结合外部网络资料才能真正捕捉到那层微妙的逻辑含义。这种表达方式的后果是,学习过程中的挫败感会显著增加,因为它要求读者必须完全适应作者的思维框架,而不是让作者的文字主动去适应读者的理解习惯。如果能用更现代、更扁平化的语言来包装这些复杂的理论,我想这本书的受众群体会拓宽许多,也不至于让很多有天赋的初学者望而却步。

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