具體描述
本書深入論述瞭X射綫光電子譜（XPS）和靜態次級離子質譜（SSIMS）及其在聚閤物材料研究中的應用。在聚閤物錶麵的結構分析與特性研究，特彆是解決工業研究中有關問題時，XPS和SSIMS普遍被認為是強有力的技術。隨著過去十年儀器分析能力和數據闡釋方麵的飛速發展，該領域已經發展到有可能將這兩方麵的信息閤並起來的階段。本書中，作者敘述瞭XPS和SSIMS技術，並就各自可獲得的住處類型分彆作瞭解釋。本書也
著者簡介
圖書目錄
第一章 引言
1．1 聚閤物錶麵的重要性
1．2 聚閤物錶麵和體相的差異
1．3 添加劑和汙染物的影響
1．4 聚閤物錶麵預處理及改性
1．5 與錶麵特性有關的深度範圍
1．6 聚閤物錶麵分析技術的要求
1．7 XPS簡要曆史
1．8 SIMS簡要曆史
第二章 X射綫光電子譜
2．1 儀器結構
2．2 物理基礎
第三章 聚閤物的XPS信息
· · · · · · (收起)
1．1 聚閤物錶麵的重要性
1．2 聚閤物錶麵和體相的差異
1．3 添加劑和汙染物的影響
1．4 聚閤物錶麵預處理及改性
1．5 與錶麵特性有關的深度範圍
1．6 聚閤物錶麵分析技術的要求
1．7 XPS簡要曆史
1．8 SIMS簡要曆史
第二章 X射綫光電子譜
2．1 儀器結構
2．2 物理基礎
第三章 聚閤物的XPS信息
· · · · · · (收起)
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