具體描述
《矽超大規模集成電路工藝技術:理論、實踐與模型》是美國斯坦福大學電氣工程係“矽超大規模集成電路製造工藝”課程所使用的教材，該課程是為電氣工程係微電子學專業的四年級本科生及一年級研究生開設的一門專業課。《矽超大規模集成電路工藝技術：理論、實踐與模型》最大的特點是，不僅詳細介紹瞭與矽超大規模集成電路芯片生産製造相關的實際工藝技術，而且還著得講解瞭這些工藝技術背後的科學工藝過程的物理圖像。同時全書還對每一步單項工藝技術所要用到的測量方法後麵都附有相關內容的參考文獻，同時還附有大量習題。
對於我國高等院校微電子學專業的教師及學生，《矽超大規模集成電路工藝技術:理論、實踐與模型》是一本不可多得的優秀教材和教學參考書，並可供相關領域的工程技術人員學習參考。
著者簡介
圖書目錄
第2章 現代CMOS工藝技術
第3章 晶體生長、晶圓片製造及矽晶圓片的基本特性
第4章 半導體生産――潔淨室、晶圓片清洗與吸雜
第5章 光刻
第6章 熱氧化及矽/二氧化矽界麵
第7章 雜質擴散
第8章 離子注入
第9章 薄膜澱積
第10章 刻蝕
第11章 後道工藝技術
附錄
索引
· · · · · · (收起)
讀後感
評分
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用戶評價
工藝聖經吧。。。老子啃完70%懂瞭一半終於搶到第一個專業課的A啊。。。準備開始啃英文的。。。
评分工藝聖經吧。。。老子啃完70%懂瞭一半終於搶到第一個專業課的A啊。。。準備開始啃英文的。。。
评分本書很給力，逐字逐句都彆放過，不愧為EE243的TextBook，比那本半導體製造技術要來的專業的多呀，哇哢哢！！！——偏理的工藝書，真的很適閤當教材呀！！！講的非常細，知識點超級多，筆記有待整理，介本書貌似也超級難找瞭哦！！！
评分斯坦福大學的教材 的確很棒
评分本書很給力，逐字逐句都彆放過，不愧為EE243的TextBook，比那本半導體製造技術要來的專業的多呀，哇哢哢！！！——偏理的工藝書，真的很適閤當教材呀！！！講的非常細，知識點超級多，筆記有待整理，介本書貌似也超級難找瞭哦！！！
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