具體描述
本書係統地介紹瞭微電子製造科學原理與工程技術覆蓋瞭集成電路製造所涉及的怕有基本單選工藝，包括光刻、等離子體和反應離子刻蝕、離子注入擴散、氧化、蒸發、氣相外延生長、濺射和化學氣相澱積等對每一種單項工藝，不僅工藝技術加快速熱處理、 下一代光刻、分子束外延和金屬有機物化學氣相澱積等。在此基礎上本書討論瞭如何將這些單項工藝集成為各種常見的集成電路工藝技術，如CMOS技術、雙極型技術和砷化鎵技術，還介紹瞭微電子製造的新領域即微機械電子係統及其工藝技術。
本書可作為高等學校微電子專業本科生和研究生相應課程的教科書或參考書，也可供與集成電路製造工藝技術有關的專業技術人員學習參考。
著者簡介
圖書目錄
第1篇 綜述與題材
第1章 微電子製造引論
第2章 半導體襯底
第2篇 單項工藝1：熱處理和離子注入
第3章 擴散
第4章 熱氧化
……
第3篇 單元工藝2：圖形轉移
第7章 光學光刻
第8章 光刻膠
……
第4篇 單項工藝3：薄膜
第12章 物理澱積：蒸發和濺射
……
第5篇 工藝集成
第15章 器件隔離、接觸和金融化
……
附錄Ⅰ 縮寫與通用符號
……
索引
· · · · · · (收起)
第1章 微電子製造引論
第2章 半導體襯底
第2篇 單項工藝1：熱處理和離子注入
第3章 擴散
第4章 熱氧化
……
第3篇 單元工藝2：圖形轉移
第7章 光學光刻
第8章 光刻膠
……
第4篇 單項工藝3：薄膜
第12章 物理澱積：蒸發和濺射
……
第5篇 工藝集成
第15章 器件隔離、接觸和金融化
……
附錄Ⅰ 縮寫與通用符號
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· · · · · · (收起)
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微電子的書籍 沒有依托某個材料 但整體介紹瞭微電子所涉及的所有工藝
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